[发明专利]一种色转换层、显示面板和制作方法

权利要求书

1.一种色转换层，其特征在于，包括：基板、量子点色转换结构、以及设置在所述基板和所述量子点色转换结构之间的分布式布拉格反射光栅，其中

所述分布式布拉格反射光栅包括设置在所述基板上的至少一个交叠层，所述交叠层包括至少两个折射率不同的介质层。

2.根据权利要求1所述的色转换层，其特征在于，

所述交叠层包括第一介质层和第二介质层，其中，所述第一介质层为包括III族氮化物的材料，所述第二介质层为金属；

或者

所述交叠层包括第三介质层、第四介质层和第五介质层，其中，所述第三介质层为金属，所述第四介质层为包括III族氮化物的材料，所述第五介质层为金属。

3.根据权利要求2所述的色转换层，其特征在于，所述分布式布拉格反射光栅还包括设置在所述交叠层和基板之间的第六介质层，所述第六介质层的材料与所述基板的材料相同。

4.根据权利要求2或3所述的色转换层，其特征在于，所述分布式布拉格反射光栅还包括设置在光栅狭缝间的填充层，所述填充层的折射率大于等于1.1且小于等于2.0。

5.根据权利要求1所述的色转换层，其特征在于，

所述分布式布拉格反射光栅的周期大于等于200nm并且小于等于800nm；

和/或

所述分布式布拉格反射光栅的占空比大于等于0.1并且小于等于0.9；

和/或

所述分布式布拉格反射光栅为矩形光栅、倾斜光栅或闪耀光栅；

和/或

所述交叠层的交叠周期大于等于1。

6.根据权利要求1所述的色转换层，其特征在于，所述量子点色转换结构包括：

设置在所述基板上的环绕所述分布式布拉格反射光栅的挡墙结构，所述挡墙结构包括层叠设置在所述基板上的黑矩阵层和阻挡坝层；

设置在所述挡墙结构中且位于所述分布式布拉格反射光栅远离所述基板一侧的量子点层；

覆盖所述挡墙结构和所述量子点层的封装层。

7.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-6中任一项所述的色转换层。

8.一种制作如权利要求1-6中任一项所述的色转换层的制作方法，其特征在于，包括：

在基板上形成分布式布拉格反射光栅，所述分布式布拉格反射光栅包括设置在所述基板上的至少一个交叠层，所述交叠层包括至少两个折射率不同的介质层；

在所述分布式布拉格反射光栅上形成量子点色转换结构。

9.根据权利要求8所述的制作方法，其特征在于，所述在基板上形成分布式布拉格反射光栅进一步包括：

在所述基板上形成至少一个包括层叠设置的第一介质层和第二介质层的交叠层，所述第一介质层为包括III族氮化物的材料，所述第二介质层为金属；

图案化所述交叠层形成所述分布式布拉格反射光栅；

或者

在所述基板上形成至少一个包括层叠设置的第三介质层、第四介质层和第五介质层的交叠层，所述第三介质层为金属，所述第四介质层为包括III族氮化物的材料，所述第五介质层为金属；

图案化所述交叠层形成所述分布式布拉格反射光栅。

10.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，所述图案化所述交叠层形成所述分布式布拉格反射光栅进一步包括：

图案化所述交叠层、以及所述基板的一部分形成所述分布式布拉格反射光栅。

11.根据权利要求9或10所述的制作方法，其特征在于，在所述图案化所述交叠层形成所述分布式布拉格反射光栅之后，所述制作方法还包括：

在光栅狭缝间形成填充层，所述填充层的折射率大于等于1.1且小于等于2.0。