[发明专利]一种MiniLED和MicroLED的巨量转移技术在审

专利信息
申请号: 202210576790.2 申请日: 2022-05-25
公开(公告)号: CN114927437A 公开(公告)日: 2022-08-19
发明(设计)人: 阙祥灯 申请(专利权)人: 星源电子科技(深圳)有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/683;H01L25/075;G09F9/33
代理公司: 合肥信诚兆佳知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 34159 代理人: 邓勇
地址: 518132 广东省深圳市光明区玉塘街*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 miniled microled 巨量 转移 技术
【权利要求书】:

1.一种MiniLED和MicroLED的巨量转移技术,其特征在于,包括以下步骤:

S1基板膜层制备;

准备基板膜层的板材和载板,在板材上制作金属线路,并将基板膜层的板材固定在载板上;

S2基板膜层镂空,确定基板膜层上的镂空位点,并将上一层基板膜层的镂空位点作为下层基板膜层上LED的对位位点;

S3确定基板膜层的载板的安装位点,用于承载LED;

S4LED转移,将LED转移至基板膜层的镂空位点,并与载板的安装位点连接。

2.根据权利要求1所述的一种MiniLED和MicroLED的巨量转移技术,其特征在于,所述基板膜层的层数依次为J1层、J2层···JN层,其中N≥3。

3.根据权利要求1-2任一项所述的一种MiniLED和MicroLED的巨量转移技术,其特征在于,所述安装位点确立时:

单独确立J1和JN层的安装位点;

JN层的安装位点与JN-1层的镂空位点对应;

JN-1层的安装位点与JN-2层与JN-1层新增的镂空位点对应;

按照上述方式逐层确定JN-2层至J2层的安装位点。

4.根据权利要求1-2任一项所述的一种MiniLED和MicroLED的巨量转移技术,其特征在于,所述镂空位点确立时:

J1层的镂空位点为J2层至JN层的总LED安装位点;

J2层的镂空位点为J3层至JN层的总LED安装位点;

后续按照此方式依次设置J3层至JN-1层的镂空位点。

5.根据权利要求1所述的一种MiniLED和MicroLED的巨量转移技术,其特征在于,所述板材上的金属线路为1-2层。

6.根据权利要求1所述的一种MiniLED和MicroLED的巨量转移技术,其特征在于,所述LED转移时,将单色LED逐层转移至基板膜层的镂空位点。

7.根据权利要求1所述的一种MiniLED和MicroLED的巨量转移技术,其特征在于,所述基板膜层上的镂空位点采用激光、光刻腐蚀和或切割方式成型,且镂空为自由形状。

8.根据权利要求1所述的一种MiniLED和MicroLED的巨量转移技术,其特征在于,同一所述基板膜层上的LED为同一颜色,且不限定颜色类型。

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