[发明专利]一种MiniLED和MicroLED的巨量转移技术在审
申请号: | 202210576790.2 | 申请日: | 2022-05-25 |
公开(公告)号: | CN114927437A | 公开(公告)日: | 2022-08-19 |
发明(设计)人: | 阙祥灯 | 申请(专利权)人: | 星源电子科技(深圳)有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/683;H01L25/075;G09F9/33 |
代理公司: | 合肥信诚兆佳知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 34159 | 代理人: | 邓勇 |
地址: | 518132 广东省深圳市光明区玉塘街*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 miniled microled 巨量 转移 技术 | ||
1.一种MiniLED和MicroLED的巨量转移技术,其特征在于,包括以下步骤:
S1基板膜层制备;
准备基板膜层的板材和载板,在板材上制作金属线路,并将基板膜层的板材固定在载板上;
S2基板膜层镂空,确定基板膜层上的镂空位点,并将上一层基板膜层的镂空位点作为下层基板膜层上LED的对位位点;
S3确定基板膜层的载板的安装位点,用于承载LED;
S4LED转移,将LED转移至基板膜层的镂空位点,并与载板的安装位点连接。
2.根据权利要求1所述的一种MiniLED和MicroLED的巨量转移技术,其特征在于,所述基板膜层的层数依次为J1层、J2层···JN层,其中N≥3。
3.根据权利要求1-2任一项所述的一种MiniLED和MicroLED的巨量转移技术,其特征在于,所述安装位点确立时:
单独确立J1和JN层的安装位点;
JN层的安装位点与JN-1层的镂空位点对应;
JN-1层的安装位点与JN-2层与JN-1层新增的镂空位点对应;
按照上述方式逐层确定JN-2层至J2层的安装位点。
4.根据权利要求1-2任一项所述的一种MiniLED和MicroLED的巨量转移技术,其特征在于,所述镂空位点确立时:
J1层的镂空位点为J2层至JN层的总LED安装位点;
J2层的镂空位点为J3层至JN层的总LED安装位点;
后续按照此方式依次设置J3层至JN-1层的镂空位点。
5.根据权利要求1所述的一种MiniLED和MicroLED的巨量转移技术,其特征在于,所述板材上的金属线路为1-2层。
6.根据权利要求1所述的一种MiniLED和MicroLED的巨量转移技术,其特征在于,所述LED转移时,将单色LED逐层转移至基板膜层的镂空位点。
7.根据权利要求1所述的一种MiniLED和MicroLED的巨量转移技术,其特征在于,所述基板膜层上的镂空位点采用激光、光刻腐蚀和或切割方式成型,且镂空为自由形状。
8.根据权利要求1所述的一种MiniLED和MicroLED的巨量转移技术,其特征在于,同一所述基板膜层上的LED为同一颜色,且不限定颜色类型。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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