[发明专利]彩色滤光片及其制备方法、显示面板有效
申请号: | 202210536117.6 | 申请日: | 2022-05-17 |
公开(公告)号: | CN114839806B | 公开(公告)日: | 2023-09-01 |
发明(设计)人: | 张玉秀;温海龙 | 申请(专利权)人: | 广州华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 孟霞 |
地址: | 510700 广东省广州市黄埔区*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 彩色 滤光 及其 制备 方法 显示 面板 | ||
1.一种彩色滤光片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
提供一衬底;
在所述衬底上形成第一光阻材料层;
对所述第一光阻材料层进行图案化处理以形成多个第一光阻;
在所述第一光阻和所述衬底上形成第二光阻材料层,所述第二光阻材料层中包括多个染料分子;以及
对所述第二光阻材料层进行图案化处理以形成多个第二光阻;
其中,所述第一光阻的形成步骤包括:
控制所述第一光阻的固化处理工艺参数,以使形成的所述第一光阻的致密度提高至能够阻挡所述染料分子进入至所述第一光阻中的程度。
2.根据权利要求1所述的彩色滤光片的制备方法,其特征在于,在所述控制所述第一光阻的固化处理工艺参数的步骤中,包括:
提供一第一掩膜板;
在所述第一掩膜板远离所述衬底的一侧对所述第一光阻材料层进行光固化处理;
对光固化处理后的所述第一光阻材料层进行显影处理;以及
对显影后的所述第一光阻材料层进行热固化处理,以形成所述第一光阻;
其中,调整光固化处理的曝光能量值和/或提高热固化处理温度和/或提高热固化处理时间以使所述第一光阻的致密度提高至能够阻挡所述染料分子进入至所述第一光阻中。
3.根据权利要求2所述的彩色滤光片的制备方法,其特征在于,所述曝光能量值的范围为40毫焦/平方厘米~90毫焦/平方厘米、所述热固化处理温度的范围为230摄氏度~350摄氏度、所述热固化处理时间的范围为20分钟~90分钟。
4.根据权利要求1~3任意一项所述的彩色滤光片的制备方法,其特征在于,所述第二光阻的形成步骤包括:
提供一第二掩膜板;
在所述第二掩膜板远离所述衬底的一侧对所述第二光阻材料层进行光固化处理;
对光固化处理后的所述第二光阻材料层进行显影处理;以及
对显影后的所述第二光阻材料层进行热固化处理,以形成所述第二光阻。
5.根据权利要求1所述的彩色滤光片的制备方法,其特征在于,所述彩色滤光片还包括第三光阻的形成步骤,所述第三光阻在形成所述第二光阻之前或形成所述第一光阻之前制备;
其中,在所述第三光阻的形成步骤中,控制所述第三光阻的固化处理工艺参数,以使形成的所述第三光阻的致密度提高至能够阻挡所述染料分子进入至所述第三光阻中。
6.根据权利要求5所述的彩色滤光片的制备方法,其特征在于,在形成所述第一光阻和所述第二光阻的步骤之前,所述制备方法还包括:
在所述衬底上形成黑矩阵材料层;以及
对所述黑矩阵材料层进行图案化处理,以形成多个间隔设置的黑矩阵;
其中,所述第一光阻、所述第二光阻和所述第三光阻至少形成于相邻两个所述黑矩阵之间。
7.根据权利要求6所述的彩色滤光片的制备方法,其特征在于,所述第一光阻、所述第二光阻和所述第三光阻为红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻中的其中一种,所述第一光阻、所述第二光阻和所述第三光阻的颜色不同。
8.一种彩色滤光片,其特征在于,所述彩色滤光片包括衬底以及设置于所述衬底一侧的多个第一光阻和多个第二光阻,所述第二光阻中包括多个染料分子;其中,所述第一光阻的致密度大于一预设值,以阻挡所述染料分子进入至所述第一光阻中。
9.根据权利要求8所述的彩色滤光片,其特征在于,所述第一光阻包括:
第一光阻部,设置于所述衬底一侧;以及
第二光阻部,设置于所述第一光阻部远离所述衬底的一侧;
其中,所述第二光阻部的致密度大于所述第一光阻部的致密度,以阻挡所述染料分子进入至所述第一光阻中。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广州华星光电半导体显示技术有限公司,未经广州华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210536117.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:交易的风险控制方法及系统
- 下一篇:一种隐身复合材料及其制备方法