[发明专利]一种基于ECO的单目标抗遮挡跟踪方法以及装置

权利要求书

1.一种基于ECO的单目标抗遮挡跟踪方法，其特征在于，所述方法包括：

通过调节单目标跟踪模型的检测参数、搜索比例因子及搜索阈值、样本类别数量及样本容量，实现对所述单目标跟踪模型的跟踪速度的提升；

计算所述单目标跟踪模型中目标图像的峰值旁瓣比，并将所述峰值旁瓣比与预设峰值旁瓣比阈值比较，若所述峰值旁瓣比小于预设峰值旁瓣比阈值，则将所述单目标跟踪模型中对目标的跟踪状态标记为遮挡；

当单目标跟踪模型中目标的跟踪状态为遮挡时，将所述单目标跟踪模型调整为全图搜索模式，并调整单目标跟踪模型的搜索阈值，以使单目标跟踪模型完成对目标的重新定位跟踪。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

将基于方向梯度直方图方法(HOG方法)生成的HOG特征及颜色统计特征作为所述单目标跟踪模型的输入特征检测参数，实现对所述单目标跟踪模型的跟踪速度的调节。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

对所述单目标跟踪模型的输入特征检测参数中的颜色统计特征基于主成分分析法进行降维处理。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

将所述单目标跟踪模型的搜索比例因子调节为2，将搜索阈值的最大值调节为25*25个像素值，最小值调节为100*100个像素值。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

将所述单目标跟踪模型的样本类别数量调节为10个，每个类别的样本容量调节为50个；

将所述样本类别按照预设样本权重值排序；

当因新增样本而新增样本类别时，丢弃全部样本类别排序中样本权重值最小的样本类别。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

所述单目标跟踪模型中目标图像的峰值旁瓣比PSLR为主瓣峰值强度对于最强旁瓣的峰值强度之比，根据公式

计算生成；

其中，其中g_max主瓣峰值，m_s1、S_s1分别为旁瓣的均值与标准差，旁瓣为峰值图像周围11*11像素窗口的滤波峰值。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

所述预设峰值旁瓣比阈值为7-10。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

当单目标跟踪模型中目标的跟踪状态为遮挡时，将所述单目标跟踪模型调整为全图搜索模式，并将所述单目标跟踪模型的最小搜索阈值调整为全图像素尺寸。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

当单目标跟踪模型中目标的跟踪状态为遮挡时，将所述单目标跟踪模型调整为全图搜索模式，并以所述目标遮挡前一帧图像作为特征图像进行目标跟踪参考图像。

10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

在单目标跟踪模型完成对目标的重新定位跟踪后，确定目标的中心点信息和尺寸信息，并基于所述中心点信息和尺寸信息调节单目标跟踪模型的搜索比例因子及搜索阈值。