[发明专利]沉积源挡板机构及具有该沉积源挡板机构的镀膜设备

说明书

本申请涉及一种沉积源挡板机构及具有该沉积源挡板机构的镀膜设备，其中沉积源挡板机构包括旋转挡板、驱动件和转动组件，所述驱动件连接所述转动组件且能够带动所述转动组件旋转，所述转动组件沿第一方向设置并连接所述旋转挡板，所述转动组件转动能够带动所述旋转挡板在旋转平面旋转，所述第一方向垂直于所述旋转平面。上述方案中转动组件的转动轴线相对真空腔的侧壁垂直设置，通过将转动组件带动旋转挡板在与转动组件垂直的平面旋转，使得旋转挡板在与真空腔侧壁平行的旋转平面内旋转，可以使得旋转挡板在旋转过程中占用真空腔内部的空间较少，从而提高了镀膜设备的真空腔内部空间利用率。

技术领域

本申请涉及镀膜设备技术领域，特别是涉及一种沉积源挡板机构及具有该沉积源挡板机构的镀膜设备。

背景技术

在PVD(物理气相沉积)真空镀膜设备中，由于加工工艺的要求，真空镀膜设备有时需要配置几种不同类型的沉积源，例如：在一台设备上既配置电弧蒸发源，又配置磁控靶或者离子源，又或者配置针对不同靶材的磁控靶。在这种生产情况下，由于不同靶材的磁控靶，或者电弧蒸发源、磁控靶和离子源之不能同时工作，且为了防止各自的靶材被污染，就需要在不同的沉积源前侧设置可移位的遮挡装置。

现有镀膜设备中，沉积源挡板机构采用门式挡板，驱动气缸带动门式挡板向镀膜机台内推开以进行镀膜。门式挡板占用的腔体内部的空间，降低了镀膜机台的空间利用率。

发明内容

基于此，有必要提供一种沉积源挡板机构及具有该沉积源挡板机构的镀膜设备，旨在解决现有技术存在的镀膜机台的空间利用率低的问题。

第一方面，本申请提供一种沉积源挡板机构，包括旋转挡板、驱动件和转动组件，所述驱动件连接所述转动组件且能够带动所述转动组件旋转，所述转动组件的转动轴线沿第一方向设置，所述转动组件连接所述旋转挡板且能够带动所述旋转挡板在旋转平面内旋转，所述第一方向垂直于所述旋转平面。

上述沉积源挡板机构应用时，转动组件的转动轴线相对真空腔的侧壁垂直设置，通过将转动组件带动旋转挡板在与转动组件垂直的平面旋转，使得旋转挡板在与真空腔侧壁平行的旋转平面内旋转，可以使得旋转挡板在旋转过程中占用真空腔内部的空间较少，从而提高了镀膜设备的真空腔内部空间利用率。

下面对本申请的技术方案作进一步的说明：

在任意实施方式中，所述旋转挡板包括第一挡板和第二挡板。通过第一挡板和第二挡板分别对应沉积源阳极和沉积源阴极，相较于一个旋转挡板同时遮挡沉积源阳极和沉积源阴极，第一挡板和第二挡板可以分别精确遮挡，而单个旋转挡板同时遮挡沉积源阳极和沉积源阴极所需体积相对较大，不便于加工和调整。

在任意实施方式中，所述转动组件包括第一转轴和第二转轴，所述第一转轴和所述第二转轴分别连接所述第一挡板和所述第二挡板。通过第一转轴和第二转轴分别连接第一挡板和第二挡板，可以实现第一挡板和第二挡板分别控制转动，或者第一挡板和第二挡板同步转动时便于设计第一挡板和第二挡板的转动路径。

在任意实施方式中，所述转动组件还包括联动件，所述联动件连接所述第一转轴和所述第二转轴，使得所述第一转轴和所述第二转轴同步转动。通过设置联动件使得第一转轴和第二转轴同步转动，以实现通过一个驱动件带动第一转轴和第二转轴同步转动，简化结构，便于对第一挡板和第二挡板的控制。

在任意实施方式中，所述联动件与所述第一转轴、所述联动件与所述第二转轴均为啮合传动。

在任意实施方式中，所述第一转轴和所述第二转轴均为旋转轴承座。

在任意实施方式中，所述沉积源挡板机构还包括转接法兰，所述第一转轴和所述第二转轴均贯穿所述转接法兰。