[发明专利]一种制备二维磁性材料铬基硫族化物及其异质结的方法在审
| 申请号: | 202210380925.8 | 申请日: | 2022-04-12 |
| 公开(公告)号: | CN114752917A | 公开(公告)日: | 2022-07-15 |
| 发明(设计)人: | 卫斌;王文娥;程达伟;陈祖信;卢侠 | 申请(专利权)人: | 中山大学 |
| 主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/44 |
| 代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 禹小明 |
| 地址: | 510275 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 制备 二维 磁性材料 铬基硫族化物 及其 异质结 方法 | ||
1.一种制备二维磁性材料铬基硫族化物及其异质结的方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1:准备第一石英管,分别称量Te粉末、助溶剂和CrCl2的混合粉末置于上游温区和下游温区中心的石英舟中,并将生长衬底横跨在石英舟上;
S2:对第一石英管进行三次真空处理,通入一段时间保护气体,待排尽空气后,调节流量计使得流量稳定后设置温度曲线,打开开关对两个温区进行加热,保持一定生长时间后降温得到三角形二维碲化铬;
S3:准备第二石英管,称量WSe2粉末置于温区中心的石英舟中,并将生长衬底横跨在石英舟上;
S4:对第二石英管进行三次真空处理,通入一段时间保护气体,待排尽空气后,调节流量计使得流量稳定后设置温度曲线,保持一定生长时间后自然降温得到二维WSe2;
S5:将步骤S4中所得的二维WSe2作为新的衬底,重复步骤S1、S2;
S6:降温后得到在二维WSe2衬底上生长的CrTe-WSe2异质结。
2.根据权利要求1所述的制备二维磁性材料铬基硫族化物及其异质结的方法,其特征在于,所述步骤S1中,Te粉末:CrCl2质量在1:50-1:150之间,助溶剂为NaCl,质量为CrCl2质量的50wt%。
3.根据权利要求1-2任一项所述的制备二维磁性材料铬基硫族化物及其异质结的方法,其特征在于,所述步骤S1中,生长衬底为15×15×0.2mm的云母和300nm热氧化层的单晶硅片SiO2/Si,横跨倒放在离CrCl2粉末下游0-4.5cm处。
4.根据权利要求1所述的制备二维磁性材料铬基硫族化物及其异质结的方法,其特征在于,步骤S2中,Te粉的蒸发温度为500℃,CrCl2粉末的蒸发温度为700-780℃,升温时间为30min,保温时间为5-15min。
5.根据权利要求1或4所述的制备二维磁性材料铬基硫族化物及其异质结的方法,其特征在于,步骤S2中,通入的保护气体为5%的Ar/H2混合气,流量为120sccm,其中氢气会与CrCl2中的Cl元素结合生成HCl气体,使Te元素更容易与Cr元素结合形成CrTe。
6.根据权利要求1所述的制备二维磁性材料铬基硫族化物及其异质结的方法,其特征在于,步骤S3中,WSe2粉末质量在0.1-0.2g之间。
7.根据权利要求1或6所述的制备二维磁性材料铬基硫族化物及其异质结的方法,其特征在于,步骤S3中,生长衬底为具有300nm热氧化层的单晶硅片SiO2/Si,横跨正放在离WSe2粉末下游16cm处。
8.根据权利要求1所述的制备二维磁性材料铬基硫族化物及其异质结的方法,其特征在于,步骤S4中的保护气体为氩气,流量为100-200sccm。
9.根据权利要求1或8所述的制备二维磁性材料铬基硫族化物及其异质结的方法,其特征在于,步骤S4中,WSe2的蒸发温区的温度为1150-1250℃,升温时间为60min,生长时间为10-30min。
10.根据权利要求1、2、4、6、8任一项所述的制备二维磁性材料铬基硫族化物及其异质结的方法,其特征在于,步骤S2和步骤S6中的降温方式为打开管式炉盖子直接降温。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中山大学,未经中山大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210380925.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





