[发明专利]显示面板及其制备方法

说明书

本申请公开了显示面板的制备方法，包括以下步骤：提供一玻璃基板；在所述玻璃基板上制备出OLED阵列层；以及在所述OLED阵列层上制备出钝化层和平坦层，并在所述钝化层以及所述平坦层上刻蚀出通孔；其中，所述在所述钝化层以及所述平坦层上刻蚀出通孔的步骤中：在所述玻璃基板远离所述OLED阵列层的一侧设置一层光阻层；进行氢氟酸喷淋处理，在所述钝化层上形成通孔；激光剥离所述光阻层。本申请的技术效果在于，在氢氟酸刻蚀钝化层时保护玻璃基板不受腐蚀。

技术领域

本申请涉及显示领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法。

背景技术

现有柔性器件TFT制程中，为了减少一道光照，会选择使用氢氟酸HF对钝化层进行蚀刻，但是在此同时，玻璃基板的背面在过HF酸时也会被腐蚀，在宏观状态下会呈水滴状，存在滚轮印状白色脏污，在微观状态下呈现砂砾状，其最大的影响就是在实际生产时会导致激光剥离时出现剥离困难，器件层受到拉扯后造成显示面脱离，点灯后画面出现黑点、细黑线(增大ED改善状况差)，严重影响柔性LLO制程，甚至会导致器件损坏扯烂等严重后果。

发明内容

本申请的目的在于，提供一种显示面板及其制备方法，可以解决现有的显示面板氢氟酸刻蚀钝化层的制程中玻璃基板受腐蚀严重、存在滚轮印等技术问题。

为实现上述目的，本申请提供一种显示面板的制备方法，包括以下步骤：提供一玻璃基板；在所述玻璃基板上制备出OLED阵列层；以及在所述OLED阵列层上制备出钝化层和平坦层，并在所述钝化层以及所述平坦层上刻蚀出通孔；其中，所述在所述钝化层以及所述平坦层上刻蚀出通孔的步骤中：在所述玻璃基板远离所述OLED阵列层的一侧设置一层光阻层；进行氢氟酸喷淋处理，在所述钝化层上形成通孔；激光剥离所述光阻层。

进一步地，所述在所述玻璃基板上制备出OLED阵列层的步骤包括：在所述玻璃基板上依次制备出遮光层、缓冲层、有源层、栅极绝缘层、栅极层、介电层以及源漏电极层。

进一步地，所述在所述OLED阵列层上制备出钝化层和平坦层的步骤包括：在所述源漏电极层与所述介电层的上表面沉积一层绝缘材料，作为钝化层；在所述钝化层的上表面涂布一层无机材料，形成平坦层；经过曝光、显影、烘烤以及蚀刻后，在所述平坦层上形成第一通孔，且所述第一通孔与所述源漏电极层中的漏极相对设置。

进一步地，所述在所述玻璃基板远离所述OLED阵列层的一侧设置一层光阻层的步骤包括：在所述玻璃基板远离所述OLED阵列层的一侧喷涂光阻材料，并进行烘烤固化处理。

进一步地，所述进行氢氟酸喷淋处理的步骤中：进行至少两次氢氟酸喷淋处理，在所述第一通孔下方的钝化层处形成第二通孔，所述第二通孔与所述第一通孔相互连通，形成所述通孔。

进一步地，在所述氢氟酸喷淋步骤之后，进行风干处理。

进一步地，在喷涂光阻材料时，在所述玻璃基板的底面采用滚筒式的滚轮滚动，使得所述光阻材料均匀喷涂。

进一步地，在所述进行烘烤固化处理的步骤中，采用加热丝或极紫外线固化处理。

为实现上述目的，本申请还提供一种显示面板，采用如前文所述的显示面板的制备方法制备而成。

进一步地，所述显示面板包括：玻璃基板；OLED阵列层，设于所述玻璃基板一侧的表面；钝化层，设于所述OLED阵列层远离所述玻璃基板一侧的表面，所述钝化层上设有通过氢氟酸刻蚀而成的第二通孔；平坦层，设于所述钝化层远离所述OLED阵列层一侧的表面，所述平坦层上设有第一通孔，所述第一通孔与所述第二通孔相互连通，形成的通孔与所述OLED阵列层上的漏极相对设置。