[发明专利]倍缩光罩载体及其操作的方法

权利要求书

1.一种倍缩光罩载体操作的方法，其特征在于，包含以下步骤：

自一曝光工具的一静电卡盘撷取一倍缩光罩；

将该倍缩光罩定位于包括于一倍缩光罩载体的一底板上的多个支撑销上，

其中当该倍缩光罩定位于该些支撑销上时，来自该静电卡盘的该倍缩光罩上的一剩余电荷经由该些支撑销放电，且

其中该倍缩光罩与该底板之间的一距离用以防止等于或大于一阈值粒径的多个粒子自该倍缩光罩载体吸附至该倍缩光罩；及

将该倍缩光罩载体的一盖子定位于该倍缩光罩上方，使得该倍缩光罩封闭于形成于该盖子与该底板之间的一内部空间中。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，该倍缩光罩与该底板之间的该距离对应于该些支撑销的高度。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，该倍缩光罩与该底板之间的该距离对应于该些支撑销的高度与该底板中一凹陷区域的深度的组合。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，该倍缩光罩与该底板之间的该距离用以满足与该倍缩光罩相关联的放电速度参数。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，该倍缩光罩与该底板之间的该距离用以满足与该倍缩光罩及该底板相关联的电容参数。

6.一种倍缩光罩载体，其特征在于，包含：

一盖子；

一底板，

其中该盖子及该底板用以耦合而将一倍缩光罩封闭于由该盖子与该底板形成的内部空间中；及

该底板上的多个支撑销，用以在该内部空间中支撑该倍缩光罩，其中该底板或该些支撑销的至少一者用以在该倍缩光罩置放于该倍缩光罩载体中时促进该倍缩光罩上的剩余电荷的放电。

7.如权利要求6所述的倍缩光罩载体，其特征在于，该些支撑销的高度在约1150微米至约4000微米的范围内。

8.如权利要求6所述的倍缩光罩载体，其特征在于，该底板包括在该些支撑销之间且在由该些支撑销界定的周边内的凹陷区域；且

其中相对于该底板的非凹陷部分与该些支撑销中的一支撑销的顶部之间的第二距离，该凹陷区域与该支撑销的该顶部之间的第一距离更大。

9.如权利要求8所述的倍缩光罩载体，其特征在于，该第一距离在约1150微米至约4000微米的范围内。

10.一种倍缩光罩载体操作的方法，其特征在于，包含以下步骤：

形成一倍缩光罩载体的一盖子；

形成该倍缩光罩载体的一底板，

其中该盖子及该底板用以耦合形成该倍缩光罩载体的一内部空间；及

在该底板上形成多个支撑销，

其中该底板或该些支撑销中的至少一者基于一阈值粒径形成，以防止等于或大于该阈值粒径的多个粒子静电吸附至待储存于该倍缩光罩载体中的一倍缩光罩。