[发明专利]一种基于旁路铜柱散热的宽禁带功率半导体模块在审
申请号: | 202210270867.3 | 申请日: | 2022-03-18 |
公开(公告)号: | CN114664810A | 公开(公告)日: | 2022-06-24 |
发明(设计)人: | 王来利;张彤宇;熊帅 | 申请(专利权)人: | 西安交通大学 |
主分类号: | H01L25/18 | 分类号: | H01L25/18;H01L23/367;H01L23/495;H01L25/065 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 高博 |
地址: | 710049 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 旁路 散热 宽禁带 功率 半导体 模块 | ||
1.一种基于旁路铜柱散热的宽禁带功率半导体模块,其特征在于,包括若干串联或并联的宽禁带功率半导体芯片,宽禁带功率半导体芯片设置在顶部功率衬底(100)和底部功率衬底(200)之间,顶部功率衬底(100)和底部功率衬底(200)之间通过旁路铜柱和辅助铜柱支撑连接;
宽禁带功率半导体芯片与底部功率衬底(200)的上导电金属区域功率回路之间通过键合线连接,宽禁带功率半导体芯片与顶部功率衬底(100)的上导电金属区域功率回路之间通过旁路铜柱以及辅助铜柱连接,通过若干宽禁带功率半导体芯片构成半桥结构的上桥臂和下桥臂;
在底部功率衬底(200)的上表面设置有功率端子;顶部功率衬底(100)下表面的导电金属区域以及底部功率衬底(200)上表面的导电金属区域分别设置有驱动端子。
2.根据权利要求1所述的基于旁路铜柱散热的宽禁带功率半导体模块,其特征在于,顶部功率衬底(100)从上到下依次包括顶部上表面金属层(101)、顶部绝缘介质层(102)和顶部下表面金属层(103),顶部下表面金属层(103)上划分有若干导电区域。
3.根据权利要求2所述的基于旁路铜柱散热的宽禁带功率半导体模块,其特征在于,若干导电区域包括顶部第一导电区域(111)、顶部第二导电区域(112)、顶部第三导电区域(113)、顶部第四导电区域(114)、顶部第五导电区域(115)和顶部第六导电区域(116),顶部第一导电区域(111)和顶部第二导电区域(112)与驱动端子连接,顶部第三导电区域(113)和顶部第四导电区域(114)与宽禁带功率半导体芯片的导热路径连接,顶部第五导电区域(115)和顶部第六导电区域(116)连接驱动回路。
4.根据权利要求1所述的基于旁路铜柱散热的宽禁带功率半导体模块,其特征在于,底部功率衬底(200)从上到下依次包括底部上表面金属层(201)、底部绝缘介质层(202)和底部下表面金属层(203),底部上表面金属层(201)上设置有若干导电区域。
5.根据权利要求4所述的基于旁路铜柱散热的宽禁带功率半导体模块,其特征在于,若干导电区域包括底部第一导电区域(211)、底部第二导电区域(212)、底部第三导电区域(213)、底部第四导电区域(214)、底部第五导电区域(215)、底部第六导电区域(216)、底部第七导电区域(217)、底部第八导电区域(218)、底部第九导电区域(219)和底部第十导电区域(220);底部第一导电区域(211)、底部第五导电区域(215)和底部第六导电区域(216)与功率端子连接,底部第二导电区域(212)、底部第四导电区域(214)、底部第七导电区域(217)、底部第八导电区域(218)、底部第九导电区域(219)和底部第十导电区域(220)分别与对应驱动回路连接,底部第三导电区域(213)与旁路铜柱连接;宽禁带半导体功率芯片包括设置于底部第五导电区域(215)上的若干上桥臂芯片,以及设置于底部第三导电区域(213)上的若干下桥臂芯片。
6.根据权利要求5所述的基于旁路铜柱散热的宽禁带功率半导体模块,其特征在于,上桥臂芯片和下桥臂芯片的数量相同,相邻上桥臂芯片之间,以及相邻下桥臂芯片之间的间距相同。
7.根据权利要求1所述的基于旁路铜柱散热的宽禁带功率半导体模块,其特征在于,驱动端子包括设置在底部功率衬底(200)的底部上表面金属层(201)上的开尔文上桥臂源极端子和上桥臂栅极端子;设置在顶部功率衬底(100)的顶部下表面金属层(103)上的开尔文下桥臂源极端子和下桥臂栅极端子。
8.根据权利要求1所述的基于旁路铜柱散热的宽禁带功率半导体模块,其特征在于,功率端子包括分别设置在底部功率衬底(200)的底部上表面金属层(201)上的直流功率负极端子(206)、直流功率正极端子(205)和交流功率端子(204),直流功率正极端子(205)和直流功率负极端子(206)之间设置有第一耦合电容(701)和第二耦合电容(702)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安交通大学,未经西安交通大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210270867.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类