[发明专利]掩模组件及其制备方法

说明书

本公开实施例提供一种掩模组件及其制备方法，其中，该掩模组件包括掩模版，掩模版的周缘设置有夹持槽；夹盖，夹盖的形状与夹持槽的形状适配；掩模版位于夹持槽之外的表面以及夹盖的表面均设置有氧化膜。本公开实施例的技术方案可以避免夹持槽的表面与工艺气体发生反应而生锈或腐蚀，从而避免污染工艺环境。

技术领域

本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩模组件及其制备方法。

背景技术

掩模版(Mask)常用于在显示基板上形成功能图案。为了避免掩模版与封装工艺中的工艺气体(例如清洗气体)发生反应，通常会对掩模版进行阳极氧化，以使掩模版的表面形成氧化膜。但是，在阳极氧化的过程中，一般利用夹持机构夹持掩模版位于周缘的夹持位置，造成夹持位置无法形成氧化膜，导致夹持位置容易与工艺气体发生反应而生锈或腐蚀，从而污染工艺环境。

发明内容

本公开实施例提供一种掩模组件及其制备方法，以解决或缓解现有技术中的一项或更多项技术问题。

作为本公开实施例的一个方面，本公开实施例提供一种掩模组件，包括：

掩模版，掩模版的周缘设置有夹持槽；

夹盖，夹盖的形状与夹持槽的形状适配；

其中，掩模版位于夹持槽之外的表面以及夹盖的表面均设置有氧化膜。

在一种实施方式中，夹持槽包括顺次设置的第一槽体、第二槽体和第三槽体，第一槽体位于掩模版的第一表面且沿第一方向延伸，第二槽体位于掩模版的端面且沿掩模版的厚度方向延伸，第三槽体位于与掩模版的第二表面且沿第一方向延伸，第一表面和第二表面相对；

夹盖包括顺次连接的第一盖体、第二盖体和第三盖体，第一盖体用于封盖第一槽体，第二盖体用于封盖第二槽体，第三盖体用于封盖第三槽体。

在一种实施方式中，第一槽体的槽底设置有沿第一方向延伸的第一滑槽，第三槽体的槽底设置有沿第一方向延伸的第二滑槽；

夹盖包括与第一滑槽适配的第一滑条以及与第二滑槽适配的第二滑条，第一滑条位于第一盖体的朝向第三盖体的一侧且沿第一盖体的宽度方向延伸，第二滑条位于第三盖体的朝向第一盖体的一侧且沿第三盖体的宽度方向延伸。

在一种实施方式中，夹持槽的槽壁设置有沿槽壁的延伸方向延伸的止挡条；夹盖的侧壁设置有沿夹盖的周向延伸的止挡槽，止挡槽与止挡条适配。

在一种实施方式中，止挡条的位于第一槽体及第二槽体的部分均为楔形条，止挡槽的位于第一盖体及第三盖体的部分均为楔形槽。

在一种实施方式中，止挡条的背离夹持槽一侧的表面设置有氧化膜。

在一种实施方式中，夹持槽的深度范围为2mm-4mm，止挡条背离夹持槽一侧的表面的宽度范围为3mm-5mm。

在一种实施方式中，夹盖开设有通孔，掩模组件还包括穿设于通孔且连接至夹持槽的螺钉，螺钉的表面设置有氧化膜。

作为本公开实施例的另一个方面，本公开实施例提供一种掩模组件的制备方法，包括：

在掩模版的周缘形成夹持槽；

制作与夹持槽的形状适配的夹盖；

分别在掩模版的位于夹持槽之外的表面以及夹盖的表面形成氧化膜。

在一种实施方式中，在掩模版的周缘形成夹持槽包括：在掩模版的第一表面形成沿第一方向延伸的第一槽体，在掩模版的端面形成沿掩模版的厚度方向延伸的第二槽体以及在掩模版的第二表面形成沿第一方向延伸的第三槽体，第一槽体、第二槽体和第三槽体顺次设置，第一表面与第二表面相对；