[发明专利]掩模组件及其制备方法

权利要求书

1.一种掩模组件，其特征在于，包括：

掩模版，所述掩模版的周缘设置有夹持槽；

夹盖，所述夹盖的形状与所述夹持槽的形状适配；

其中，所述掩模版位于所述夹持槽之外的表面以及所述夹盖的表面均设置有氧化膜。

2.根据权利要求1所述的掩模组件，其特征在于，所述夹持槽包括顺次设置的第一槽体、第二槽体和第三槽体，所述第一槽体位于所述掩模版的第一表面且沿第一方向延伸，所述第二槽体位于所述掩模版的端面且沿所述掩模版的厚度方向延伸，所述第三槽体位于与所述掩模版的第二表面且沿所述第一方向延伸，所述第一表面和所述第二表面相对；

所述夹盖包括顺次连接的第一盖体、第二盖体和第三盖体，所述第一盖体用于封盖所述第一槽体，所述第二盖体用于封盖所述第二槽体，所述第三盖体用于封盖所述第三槽体。

3.根据权利要求2所述的掩模组件，其特征在于，所述第一槽体的槽底设置有沿所述第一方向延伸的第一滑槽，所述第三槽体的槽底设置有沿所述第一方向延伸的第二滑槽；

所述夹盖包括与所述第一滑槽适配的第一滑条以及与所述第二滑槽适配的第二滑条，所述第一滑条位于所述第一盖体的朝向所述第三盖体的一侧且沿所述第一盖体的宽度方向延伸，所述第二滑条位于所述第三盖体的朝向所述第一盖体的一侧且沿所述第三盖体的宽度方向延伸。

4.根据权利要求2所述的掩模组件，其特征在于，所述夹持槽的槽壁设置有沿所述槽壁的延伸方向延伸的止挡条；所述夹盖的侧壁设置有沿所述夹盖的周向延伸的止挡槽，所述止挡槽与所述止挡条适配。

5.根据权利要求4所述的掩模组件，其特征在于，所述止挡条的背离所述夹持槽一侧的表面设置有氧化膜。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的掩模组件，其特征在于，所述夹盖开设有通孔，所述掩模组件还包括穿设于所述通孔且连接至所述夹持槽的螺钉，所述螺钉的表面设置有氧化膜。

7.一种掩模组件的制备方法，其特征在于，包括：

在掩模版的周缘形成夹持槽；

制作与所述夹持槽的形状适配的夹盖；

分别在所述掩模版的位于所述夹持槽之外的表面以及所述夹盖的表面形成氧化膜。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，

在掩模版的周缘形成夹持槽包括：在所述掩模版的第一表面形成沿第一方向延伸的第一槽体，在所述掩模版的端面形成沿所述掩模版的厚度方向延伸的第二槽体以及在所述掩模版的第二表面形成沿所述第一方向延伸的第三槽体，所述第一槽体、所述第二槽体和所述第三槽体顺次设置，所述第一表面与所述第二表面相对；

制作与所述夹持槽的形状适配的夹盖包括：形成顺次垂直连接的第一盖体、第二盖体和第三盖体，所述第一盖体用于封盖所述第一槽体，所述第二盖体用于封盖所述第二槽体，所述第三盖体用于封盖所述第三槽体。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，

在掩模版的周缘形成夹持槽还包括：在所述第一槽体的槽底开设沿所述第一方向延伸的第一滑槽以及在所述第三槽体的槽底开设沿所述第一方向延伸的第二滑槽；和/或，沿所述夹持槽的周向减薄所述夹持槽的槽壁，形成沿所述夹持槽周向延伸的止挡条，并在所述止挡条的背离所述夹持槽的一侧的表面形成氧化膜；

制作与所述夹持槽的形状适配的夹盖包括：在所述第一盖体的朝向所述第三盖体的一侧形成沿所述第一盖体的宽度方向延伸的第一滑条以及在所述第三盖体的朝向所述第一盖体的一侧形成沿所述第三盖体的宽度方向延伸的第二滑条，所述第一滑条与所述第一滑槽适配，所述第二滑条与所述第二滑槽适配；和/或，沿所述夹盖的周向减薄所述夹盖的侧壁，形成沿所述夹盖的周向延伸的止挡槽，所述止挡槽与所述止挡条适配。

10.根据权利要求7至9中任一项所述的制备方法，其特征在于，还包括：

在所述夹盖上开设通孔；

将螺钉穿过所述通孔与所述夹持槽连接，并且在所述螺钉的表面预先设置氧化膜。