[发明专利]成膜装置

权利要求书

1.一种成膜装置，其具备：

腔室，所述腔室将内部保持为真空；

吸附板，所述吸附板设置在所述腔室的内部，对基板进行吸附；及

基板支承部，所述基板支承部设置在所述腔室的内部，具有在所述吸附板的下方对所述基板进行支承的多个基板载置部，

所述成膜装置的特征在于，具备：

检知机构，所述检知机构对所述腔室的内部被保持为真空的状态下的所述多个基板载置部的各自的高度进行检知；及

调节机构，所述调节机构在所述腔室的内部被保持为真空的状态下，基于所述检知机构的检知结果，调节所述多个基板载置部的各自的高度。

2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

所述检知机构包括：

第一升降机构，所述第一升降机构使所述吸附板升降；及

接触检知机构，所述接触检知机构检知所述吸附板与所述多个基板载置部的接触，

在所述多个基板载置部未支承所述基板的状态下，基于所述第一升降机构使所述吸附板下降时的所述接触检知机构的检知结果，对所述多个基板载置部相对于所述吸附板的各自的高度进行检知。

3.根据权利要求2所述的成膜装置，其特征在于，

所述接触检知机构包括向所述多个基板载置部的各自的基板的载置面露出的触头。

4.根据权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，

所述调节机构包括在所述腔室的内部被保持为真空的状态下使所述多个基板载置部分别独立地升降的第二升降机构，以多个所述触头分别与所述吸附板接触的时机的时间差收敛于规定的时间内的方式调节所述多个基板载置部的各自的高度。

5.根据权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，

所述调节机构以多个所述触头分别与所述吸附板接触的时机的时间差成为规定的时间差的方式调节所述多个基板载置部的各自的高度。

6.一种成膜装置，其具备：

腔室，所述腔室将内部保持为真空；

吸附板，所述吸附板设置在所述腔室的内部，对基板进行吸附；及

基板支承部，所述基板支承部设置在所述腔室的内部，具有在所述吸附板的下方对所述基板进行支承的多个基板载置部，

所述成膜装置的特征在于，具备：

检知机构，所述检知机构对所述多个基板载置部各自与位于所述基板载置部的上方的对象的接触进行检知；及

调节机构，所述调节机构在所述腔室的内部被保持为真空的状态下，基于所述检知机构的检知结果，调节所述多个基板载置部的各自的高度。

7.根据权利要求6所述的成膜装置，其特征在于，

所述成膜装置还具备使所述吸附板升降的第一升降机构，

所述检知机构检知与所述吸附板的接触，

在所述多个基板载置部未支承所述基板的状态下，基于所述第一升降机构使所述吸附板下降时的所述检知机构的检知结果，所述调节机构调节所述多个基板载置部相对于所述吸附板的各自的高度。

8.根据权利要求6或7所述的成膜装置，其特征在于，

所述检知机构包括向所述多个基板载置部的各自的基板的载置面露出的触头。

9.根据权利要求6或7所述的成膜装置，其特征在于，

检知机构包括向所述多个基板载置部的各自的基板的载置面露出的触头，

所述调节机构包括在所述腔室的内部被保持为真空的状态下使所述多个基板载置部分别独立地升降的第二升降机构，

以多个所述触头分别与所述吸附板接触的时机的时间差收敛于规定的时间内的方式调节所述多个基板载置部的各自的高度。

10.根据权利要求8所述的成膜装置，其特征在于，

所述调节机构以多个所述触头分别与所述吸附板接触的时机的时间差成为规定的时间差的方式调节所述多个基板载置部的各自的高度。