[发明专利]一种动态检测装置及化学机械平坦化设备

权利要求书

1.一种动态检测装置，其特征在于，包括：

发射单元（1）；

反馈单元（2），用于接收发射单元（1）发出的光束（3）；

所述发射单元（1）和反馈单元（2）分别设于晶圆传输手（4）或晶圆清洗模组（5）；

所述发射单元（1）和反馈单元（2）分别位于晶圆（6）的两侧，当晶圆传输手（4）上夹持有晶圆（6）时，该晶圆（6）可阻挡光束（3）；

所述发射单元（1）或反馈单元（2）随着晶圆传输手（4）移动，可与晶圆清洗模组（5）的任一反馈单元（2）或发射单元（1）配合，用于检测两者之间的光路内是否有晶圆（6），以判断晶圆传输手（4）上是否夹持有晶圆（6）；

所述晶圆传输手（4）具有多个检测点，该检测点指的是晶圆传输手（4）在水平横轴（7）上的移动过程中，会停留在该位置进行晶圆有无的检测，在检测点时，所述发射单元（1）和反馈单元（2）分别位于晶圆（6）的径向两侧，且与晶圆（6）位于同一竖直平面内；或者，发射单元（1）和反馈单元（2）分别位于晶圆（6）的径向两侧，且与晶圆（6）不位于同一竖直平面内。

2.根据权利要求1所述的动态检测装置，其特征在于：所述发射单元（1）设于晶圆传输手（4），所述反馈单元（2）设于晶圆清洗模组（5）。

3.根据权利要求1所述的动态检测装置，其特征在于：所述晶圆传输手（4）具有多个检测点，在检测点时，所述发射单元（1）和反馈单元（2）之间的光束（3）倾斜设置，其与晶圆（6）平面的夹角为α，则0°＜α＜80°。

4.根据权利要求3所述的动态检测装置，其特征在于：所述发射单元（1）和反馈单元（2）的高度差为0-1m。

5.根据权利要求1所述的动态检测装置，其特征在于：所述晶圆传输手（4）为一个或两个及以上，其可移动地设于水平横轴（7）。

6.根据权利要求1所述的动态检测装置，其特征在于：所述晶圆清洗模组（5）的数量为至少两个，其为晶圆兆声清洗模组或晶圆刷洗模组或晶圆干燥模组或晶圆过渡模组或其组合。

7.根据权利要求1所述的动态检测装置，其特征在于：所述反馈单元（2）为反光板；所述发射单元（1）为反射式光学传感器，其用于发射光束（3）及用于接收通过反光板反射回的光束。

8.根据权利要求1所述的动态检测装置，其特征在于：所述发射单元（1）和反馈单元（2）为对射式光学传感器的发射端和接收端。

9.根据权利要求1所述的动态检测装置，其特征在于：所述反馈单元（2）设于晶圆清洗模组（5）的箱体外侧，或设于晶圆传输手（4）的纵轴（41）。

10.一种化学机械平坦化设备，包括抛光机构，清洗机构，及干燥机构，其特征在于：所述清洗机构或干燥机构上设有如权利要求1-9中任一项所述的动态检测装置。