[发明专利]横向光电探测器在审
申请号: | 202210055383.7 | 申请日: | 2022-01-18 |
公开(公告)号: | CN114512557A | 公开(公告)日: | 2022-05-17 |
发明(设计)人: | 周幸叶;吕元杰;王元刚;梁士雄;冯志红 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十三研究所 |
主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/105;H01L31/107 |
代理公司: | 石家庄国为知识产权事务所 13120 | 代理人: | 张一 |
地址: | 050051 *** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 横向 光电 探测器 | ||
本发明提供一种横向光电探测器。该横向光电探测器包括:衬底;第一外延层,形成于衬底上;X个阳极区和Y个阴极区,X个阳极区和Y个阴极区交替排列,均形成于第一外延层上;其中,X个阳极区和Y个阴极区相互之间均未直接接触,每两个相邻的阳极区和阴极区通过第一外延层形成横向PIN结;X个第一电极,一一对应形成于X个阳极区上,X个第一电极通过第一金属带线电连接;Y个第二电极,一一对应形成于Y个阴极区上,Y个第二电极通过第二金属带线电连接。本发明能够提高光电探测器的工作性能。
技术领域
本发明涉及光电探测器技术领域,尤其涉及一种横向光电探测器。
背景技术
半导体光电探测器具有灵敏度高、可靠性好、体积小、便于集成等优点,在火灾探测、通信、遥感、预警等军民领域具有广阔的应用前景。
传统的半导体光电探测器,多采用纵向结构,由于短波长的入射光信号在半导体材料内部的吸收长度较短,通常在材料表面被吸收,无法在探测器内部形成光电流,造成探测器对短波长信号的响应度较低,也即传统的半导体光电探测器工作性能较差且灵敏度低。
发明内容
本发明实施例提供了一种横向光电探测器,以解决传统的半导体光电探测器工作性能较差且灵敏度低的问题。
第一方面,本发明实施例提供了一种横向光电探测器,包括:
衬底;
第一外延层,形成于衬底上;
X个阳极区和Y个阴极区,X个阳极区和Y个阴极区交替排列,均形成于第一外延层上;其中,X个阳极区和Y个阴极区相互之间均未直接接触,每两个相邻的阳极区和阴极区通过第一外延层形成横向PIN结;
X个第一电极,一一对应形成于X个阳极区上,X个第一电极通过第一金属带线电连接;
Y个第二电极,一一对应形成于Y个阴极区上,Y个第二电极通过第二金属带线电连接。
在一种可能的实现方式中,第一外延层在每两个相邻的阳极区和阴极区之间形成一个隔离平台。
在一种可能的实现方式中,X个阳极区均为第一掺杂浓度的重掺杂P型区;
Y个阴极区均为第二掺杂浓度的重掺杂N型区;
第一外延层为第三掺杂浓度的轻掺杂P型或者轻掺杂N型半导体材料;其中,第一掺杂浓度和第二掺杂浓度均大于第三掺杂浓度。
在一种可能的实现方式中,第一掺杂浓度和第二掺杂浓度均处于1018~1020cm-3范围;
第三掺杂浓度处于1014~1018cm-3范围,且不包括1018cm-3。
在一种可能的实现方式中,衬底为半绝缘型半导体材料或者导电型半导体材料。
在一种可能的实现方式中,衬底为硅、砷化镓、氮化镓、碳化硅、金刚石、蓝宝石中的任意一种。
在一种可能的实现方式中,该探测器还包括:
设置在第一外延层和衬底之间的至少一层缓冲层;或者,
设置在第一外延层和衬底之间的第二外延层,第二外延层与第一外延层的半导体材料类型不同。
在一种可能的实现方式中,X个阳极区和Y个阴极区均为矩形,或者均为圆形,或者均为环形。
在一种可能的实现方式中,该探测器还包括:
设置在横向光电探测器的上表面,覆盖除X个第一电极和Y个第二电极以外区域的钝化层。
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的