[发明专利]一种物理气相沉积装备溅射靶材安装定位装置在审
申请号: | 202210052618.7 | 申请日: | 2022-01-18 |
公开(公告)号: | CN114393547A | 公开(公告)日: | 2022-04-26 |
发明(设计)人: | 罗正勇;金補哲 | 申请(专利权)人: | 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司 |
主分类号: | B25B27/14 | 分类号: | B25B27/14;C23C14/34 |
代理公司: | 上海老虎专利代理事务所(普通合伙) 31434 | 代理人: | 葛瑛 |
地址: | 315100 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 物理 沉积 装备 溅射 安装 定位 装置 | ||
本发明公开了一种物理气相沉积装备溅射靶材安装定位装置,包括溅射靶材安装定位装置,溅射靶材安装定位装置包括底座、升降机构、靶材提放螺栓和靶材定位插销,底座的拐角处均匀安装有四组滚轮,升降机构内置底座的内部且由驱动电机、皮带、丝杠、滑块和升降杆组成,驱动电机垂直安装于底座上且动力输出端通过皮带与丝杠相连接,丝杠垂直安装于底座内且底端与底座转动连接,滑块螺纹穿插于丝杠上且外端与升降杆相连接,升降杆的下端固定于底座上且外端连接有交叉式支撑机构。本发明设计了一种专门用于物理气相沉积装备溅射靶材进行拆装和定位的装置,该装置在靶材移出与安装时,采用机械机构操作,避免人员受伤,避免靶材和设备受损。
技术领域
本发明涉及半导体制造物理气相沉积设备技术领域,具体为一种物理气相沉积装备溅射靶材安装定位装置。
背景技术
物理气相沉积技术表示在真空条件下,采用物理方法,将靶材表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。靶材是物理气相沉积设所用的材料源,靶材在使用过程中不断消耗,消耗到一定数量后需要更换靶材。不同的工艺所用的靶材也不相同,不同工艺之间转换时需要更换靶材。常用的靶材如:铝铜,铜,钛,等,更换靶材的主要步骤:将原来设备上的旧靶材拆下,安装新的靶材。
然而,现有的物理气相沉积装备溅射靶材拆装方式存在以下的问题:(1)多采用人工操作的方式,靶材较重,人工移出与安装不便,易造成人员受伤并且容易对靶材造成碰撞,造成靶材和设备受损;(2)安装时无对位装置,凭肉眼对位,造成对位不准,重复操作,浪费时间。为此,需要设计相应的技术方案解决存在的技术问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种物理气相沉积装备溅射靶材安装定位装置,解决了多采用人工操作的方式,靶材较重,人工移出与安装不便,易造成人员受伤并且容易对靶材造成碰撞,造成靶材和设备受损,这一技术问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种物理气相沉积装备溅射靶材安装定位装置,包括溅射靶材安装定位装置,所述溅射靶材安装定位装置包括底座、升降机构、靶材提放螺栓和靶材定位插销,所述底座的拐角处均匀安装有四组滚轮,所述升降机构内置底座的内部且由驱动电机、皮带、丝杠、滑块和升降杆组成,所述驱动电机垂直安装于底座上且动力输出端通过皮带与丝杠相连接,所述丝杠垂直安装于底座内且底端与底座转动连接,所述滑块螺纹穿插于丝杠上且外端与升降杆相连接,所述升降杆的下端固定于底座上且外端连接有交叉式支撑机构,所述交叉式支撑机构的下端连接有两组支架,所述靶材提放螺栓分设有若干组且螺纹固定于支架上,若干组所述靶材提放螺栓的下端螺纹连接有靶材本体,所述靶材定位插销分设有若干组且螺纹穿插于交叉式支撑机构上。
作为本发明的一种优选方式,所述底座的外围垂直安装有四组侧板且内部形成有安装槽,所述侧板上安装有调节按钮,所述调节按钮通过线路与驱动电机相连接。
作为本发明的一种优选方式,所述交叉式支撑机构由主筒、提升杆、支撑板、交叉杆和连接块组成,所述主筒的底部固定于底座上,所述提升杆活动穿插于主筒且外端与滑块相连接,所述支撑板水平安装于提升杆的顶部,所述交叉杆安装有支撑板的外端且下方与连接块相连接,所述连接块分设有两组且对称安装于支架的上方。
作为本发明的一种优选方式,所述交叉杆由两组横杆组成,两组所述横杆呈交叉状设置且连接的中心位置与支撑板的外端相连接。
作为本发明的一种优选方式,所述支架和连接块上均开设有若干组定位孔,若干组所述定位孔包括四组定位孔一和四组定位孔二,所述定位孔一距离支架的中心位置为八寸,所述定位孔二距离支架的中心位置为十二寸。
作为本发明的一种优选方式,所述靶材提放螺栓包括手动提升手柄和垂直固定于手动提升手柄下方的螺杆,所述螺杆螺纹穿插于靶材本体。
作为本发明的一种优选方式,所述靶材本体的外围开设有螺纹孔,所述螺杆的下端螺纹穿插于螺纹孔内。
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