[发明专利]一种电池片镀膜系统在审
| 申请号: | 202210044865.2 | 申请日: | 2022-01-14 |
| 公开(公告)号: | CN114351124A | 公开(公告)日: | 2022-04-15 |
| 发明(设计)人: | 杨宝海;李义升;李翔;李轶军 | 申请(专利权)人: | 营口金辰机械股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/24;C23C16/50;H01L31/072;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 任晓;徐川 |
| 地址: | 115000 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 电池 镀膜 系统 | ||
本发明实施例提供一种电池片镀膜系统,该电池片镀膜系统包括:用于输送电池片的输送线和设置于输送线的传输工位旁侧的多个镀膜模块,输送线具有多个传输工位,镀膜模块与传输工位之间传送电池片,多个镀膜模块包括:包括至少一个第一镀膜装置的第一镀膜模块;包括至少一个第二镀膜装置的第二镀膜模块;包括至少一个第二镀膜装置的第三镀膜模块;包括至少一个第四镀膜装置的第四镀膜模块;其中,第一镀膜装置、第二镀膜装置、第三镀膜装置以及第四镀膜装置中的至少一者的数量不小于两个。本发明实施例中的电池片镀膜系统降低了输送线需要等待单个镀膜装置的处理而整体空等的情况出现概率,提高了单位时间内处理电池片的数目。
技术领域
本发明涉及光伏设备技术领域,具体涉及一种电池片镀膜系统。
背景技术
随着人类对节能减排需求的日益增加,在全球范围内光伏发电具有广阔的产业前景。其中,硅基异质结太阳能电池,以其简洁的制备工艺,较高的转化效率和较高的降本增效潜能,越来越受到业界的关注,已经成为了行业内的热点。
PECVD(plasma enhanced chemical vapor deposition,等离子增强化学气相沉积)工艺是在较高真空环境下,利用高频电源将反应气体电离成等离子态后完成表面镀膜工艺,广泛应用于光伏电池制造领域。
以硅基异质结电池片镀膜生产线为例,在相关技术中,在生产线上依次布置多个PECVD工艺设备,在晶体硅基片上下表面上,利用PECVD工艺设备对称地沉积本征薄膜硅层;然后继续利用其他的PECVD工艺设备在上下表面的本征薄膜硅层沉积N型掺杂层和P型掺杂层,由于本征薄膜硅层、N型掺杂层、P型掺杂层的镀膜时间不同,而生产线的生产节拍按照时长最长的一个镀膜工序设定,导致其他工序空等时间较长,生产效率较低。
发明内容
有鉴于此,本申请实施例期望提供一种能够提高电池片镀膜效率的电池片镀膜系统。
为达到上述目的,本申请实施例的技术方案是这样实现的:
本发明实施例提供一种电池片镀膜系统,该电池片镀膜系统包括:
用于输送电池片的输送线,所述输送线具有多个传输工位;
设置于所述输送线的传输工位旁侧的多个镀膜模块,所述镀膜模块与所述传输工位之间传送电池片,多个所述镀膜模块包括:
第一镀膜模块,包括至少一个用于对电池片的第一面镀第一本征层的第一镀膜装置;
第二镀膜模块,包括至少一个用于对电池片的第二面镀第二本征层的第二镀膜装置,
第三镀膜模块,包括至少一个用于在所述第一本征层上镀N型掺杂层的第三镀膜装置;
第四镀膜模块,包括至少一个用于在所述第二本征层上镀P型掺杂层的第四镀膜装置;其中,所述第一镀膜装置、所述第二镀膜装置、所述第三镀膜装置以及所述第四镀膜装置中的至少一者的数量不小于两个。
在一些实施例中,所述第一镀膜装置、所述第二镀膜装置、所述第三镀膜装置以及所述第四镀膜装置中,镀膜所需时长最长者的数量不小于两个。
在一些实施例中,所述第一镀膜装置、所述第二镀膜装置、所述第三镀膜装置以及所述第四镀膜装置中,镀膜所需时长最长者的数量最多。
在一些实施例中,所述第一镀膜模块与所述第三镀膜模块沿输送方向相邻;和\或,所述第二镀膜模块与所述第四镀膜模块沿输送方向相邻。
在一些实施例中,所述输送线包括至少一个用于翻转电池片的翻转工位,所述翻转工位位于所述第三镀膜模块和所述第四镀膜模块之间。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





