[发明专利]研磨系统在审
| 申请号： | 202180030565.2 | 申请日： | 2021-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN115443206A | 公开（公告）日： | 2022-12-06 |
| 发明（设计）人： | 高桥笃;前泽明弘;月形扶美子;沟口启介 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/005 | 分类号： | B24B37/005;B24B37/013;B24B49/08;H01L21/304;B23Q17/00;B23Q17/09 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 韩锋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 系统 | ||
【权利要求书】：
1.一种研磨系统，使用研磨剂浆料对被研磨物进行化学机械研磨，其特征在于，
所述被研磨物是含有元素周期表第一主族或第二主族的金属元素的玻璃，
具有研磨量计算工序部，该研磨量计算工序部对来源于完成加工浆料中的被研磨物的、所述金属元素的游离金属离子的量进行测定，根据所述游离金属离子的量来计算所述被研磨物的研磨量。
2.根据权利要求1所述的研磨系统，其特征在于，
基于所述被研磨物的研磨量来决定研磨的终点。
3.根据权利要求1或2所述的研磨系统，其特征在于，
基于所述被研磨物的研磨量来决定研磨剂浆料的废弃时机。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的研磨系统，其特征在于，
来源于所述被研磨物的游离金属离子是元素周期表第一主族金属元素的游离金属离子。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的研磨系统，其特征在于，
来源于所述被研磨物的游离金属离子是钠离子或钾离子。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的研磨系统，其特征在于，
所述研磨剂浆料含有氧化铈。
7.一种研磨系统，使用研磨剂浆料对被研磨物进行化学机械研磨，其特征在于，
所述被研磨物是含有元素周期表第一主族或第二主族的金属元素的玻璃，
具有研磨量计算工序部，该研磨量计算工序部对完成加工浆料的电导率进行测定，根据所述电导率来计算所述被研磨物的研磨量。
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