[发明专利]用于晶片缺陷检测的投影及距离切割算法在审
| 申请号: | 202180008537.0 | 申请日: | 2021-01-04 |
| 公开(公告)号: | CN114946016A | 公开(公告)日: | 2022-08-26 |
| 发明(设计)人: | 姜旭光;罗柱桓 | 申请(专利权)人: | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;G01N21/88;G01N21/95;H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 刘丽楠 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 晶片 缺陷 检测 投影 距离 切割 算法 | ||
1.一种系统,其包括:
光源,其产生光;
载台,其经配置以固持晶片;
检测器,其接收从所述晶片反射的所述光;及
处理器,其与所述检测器进行电子通信,其中所述处理器经配置以:
在依据来自所述检测器的数据产生的图像的区域中确定投影,其中所述投影是沿X方向的X投影及/或沿Y方向的Y投影,且其中所述X方向与所述Y方向是垂直的;
将至少一个阈值应用于所述投影,借此在所述图像的所述区域中形成至少一个分段;及
在所述区域中使用距所述投影的至少一个距离值确定至少一个精细分段。
2.根据权利要求1所述的系统,其中所述光源是激光器。
3.根据权利要求1所述的系统,其中所述精细分段是沿着所述X方向或所述Y方向界定的。
4.根据权利要求1所述的系统,其中所述精细分段是沿着所述X方向及所述Y方向界定的。
5.根据权利要求1所述的系统,其中所述处理器进一步经配置以在所述精细分段中的一或多者中执行缺陷检测。
6.根据权利要求1所述的系统,其中所述图像是2D图像且其中所述投影将所述2D图像转换成1D数据。
7.根据权利要求1所述的系统,其中所述精细分段的尺寸是至少五个像素。
8.一种方法,其包括:
使用处理器在半导体晶片的图像的区域中确定投影,其中所述投影是沿X方向的X投影及/或沿Y方向的Y投影,且其中所述X方向与所述Y方向是垂直的;
使用所述处理器将至少一个阈值应用于所述投影,借此在所述图像的所述区域中形成至少一个分段;及
使用所述处理器在所述区域中使用距所述投影的至少一个距离值确定至少一个精细分段。
9.根据权利要求8所述的方法,其中所述精细分段是沿着所述X方向或所述Y方向界定的。
10.根据权利要求8所述的方法,其中所述精细分段是沿着所述X方向及所述Y方向界定的。
11.根据权利要求8所述的方法,其中所述方法进一步包括在所述精细分段中的一或多者中执行缺陷检测。
12.根据权利要求8所述的方法,其中所述图像是2D图像且其中所述投影将所述2D图像转换成1D数据。
13.根据权利要求8所述的方法,其中所述精细分段的尺寸是至少五个像素。
14.一种非暂时性计算机可读存储媒体,其包括用于在一或多个计算装置上执行以下步骤的一或多个程序:
在半导体晶片的图像的区域中确定投影,其中所述投影是沿X方向的X投影及/或沿Y方向的Y投影,且其中所述X方向与所述Y方向是垂直的;
将至少一个阈值应用于所述投影,借此在所述图像的所述区域中形成至少一个分段;及
在所述区域中使用距所述投影的至少一个距离值确定至少一个精细分段。
15.根据权利要求14所述的非暂时性计算机可读存储媒体,其中所述精细分段是沿着所述X方向或所述Y方向界定的。
16.根据权利要求14所述的非暂时性计算机可读存储媒体,其中所述精细分段是沿着所述X方向及所述Y方向界定的。
17.根据权利要求14所述的非暂时性计算机可读存储媒体,其中所述步骤进一步包含在所述精细分段中的一或多者中执行缺陷检测。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





