[发明专利]用于保护膜的粘合剂组合物、包含其的粘合剂和使用其的粘合剂片在审
| 申请号: | 202180005339.9 | 申请日: | 2021-01-19 |
| 公开(公告)号: | CN114402052A | 公开(公告)日: | 2022-04-26 |
| 发明(设计)人: | 李熙济;金贤哲;孙珍浩;金学林;金东圭;李秀仁 | 申请(专利权)人: | 株式会社LG化学 |
| 主分类号: | C09J7/38 | 分类号: | C09J7/38;C09J133/08;C09J9/02;C09J11/06;C09J7/10 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 赵丹;李婉 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 保护膜 粘合剂 组合 包含 使用 | ||
本发明涉及用于保护膜的粘合剂组合物、包含其的粘合剂和使用其获得的粘合剂片,并且特别地,涉及如下用于保护膜的粘合剂组合物、包含其的粘合剂和使用其获得的粘合剂片,所述粘合剂组合物包含为含有亲水性单体和基于有机硅的单体的混合物的聚合产物的含低聚物的添加剂,并因此可以改善使用所述粘合剂组合物获得的保护膜的低速剥离强度和高速剥离强度,防止在将保护膜剥离之后为所述粘合剂组合物的固化产物的粘合剂在光学构件例如偏光板上留下残留物,并降低保护膜的表面电阻和剥离静电电压。
技术领域
本发明要求于2020年3月25日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2020-0036046号和于2020年3月25日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2020-0036050号的申请日的权益,其全部内容包括在本发明中。本发明涉及用于保护膜的粘合剂组合物、包含其的粘合剂和使用其获得的粘合剂片,并且特别地,涉及如下用于保护膜的粘合剂组合物、包含其的粘合剂和使用其获得的粘合剂片,所述粘合剂组合物包含为含有亲水性单体和基于有机硅的单体的混合物的聚合产物的含低聚物的添加剂,并因此可以改善使用所述粘合剂组合物获得的保护膜的低速剥离强度和高速剥离强度,防止在将保护膜剥离之后为粘合剂组合物的固化产物的粘合剂在光学构件例如偏光板上留下残留物,并降低保护膜的表面电阻和剥离静电电压。
背景技术
保护膜被广泛使用以防止产品表面因在运输、储存和/或组装产品(例如家用电器、电子产品、光学装置和汽车)的过程期间可能发生的物理冲击而损坏。
这些保护膜通常具有其中粘合剂层形成在塑料基础膜例如聚对苯二甲酸乙二醇酯的一个或两个表面上的结构。作为用于形成用于保护膜的粘合剂层的粘合剂,出于诸如耐气候性和透明性的原因而广泛使用丙烯酸类粘合剂。
同时,为了将诸如偏光板、相位差板、宽视角补偿板和亮度增强膜的光学构件附接至诸如液晶显示装置的显示装置的目的,也广泛使用丙烯酸类粘合剂。
在这些保护膜和光学构件实现其使用目的之后或当它们需要被替换时,发生应从其中移除用于保护膜的粘合剂片的情况。在将用于保护膜的粘合剂片从偏光板移除的情况下,出现了在移除粘合剂片之后包含在粘合剂层中的粘合剂在偏光板上留下残留物的问题,并且为此原因,出现了偏光板的光学特性变化或在特定环境下发生诸如污渍的污染的另外问题。此外,出现了用于保护膜的粘合剂片的高速剥离强度和低速剥离强度以及粘合剂片的剥离静电特性根据设置在偏光板的最外侧上的TAC膜是否经表面处理而变化的问题。特别地,由于粘合剂片的低速剥离强度降低,出现了在将保护膜层合在偏光板等上之后其脱落的问题。
因此,迫切需要开发如下用于保护膜的粘合剂组合物、包含其的粘合剂和使用其获得的粘合剂片,所述粘合剂组合物可以防止保护膜在其层合之后脱落,甚至在从偏光板移除使用所述粘合剂组合物获得的粘合剂片的过程中也可以使静电的产生最小化,可以具有改善的剥离强度,并且通过防止粘合剂在偏光板上留下残留物而不会造成偏光板的污染或偏光板的光学特性的变化。
发明内容
技术问题
本发明的目的是提供如下用于保护膜的粘合剂组合物、包含其的粘合剂和使用其获得的粘合剂片,所述粘合剂组合物可以防止在移除使用所述粘合剂组合物获得的保护膜的过程中产生的粘合剂残留物使偏光板的物理特性劣化或引起污渍,可以在移除保护膜的过程中使静电的产生最小化,并且可以改善保护膜的低速剥离强度。
然而,本发明要解决的目的不限于上述目的,并且本领域技术人员从以下描述中将清楚地理解本文未提及的其他目的。
技术方案
根据本发明的一个实施方案,提供了用于保护膜的粘合剂组合物,所述粘合剂组合物包含:丙烯酸类聚合物;抗静电剂,所述抗静电剂为选自含金属离子的无机盐、离子液体有机盐及其组合中的任一者;基于异氰酸酯的固化剂;和含低聚物的添加剂,所述含低聚物的添加剂为包含下式1的第一亲水性单体和下式3的基于有机硅的单体的第一混合物的聚合物:
[式1]
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