[实用新型]晶圆清洁装置及晶圆清洁设备有效
| 申请号： | 202122561109.0 | 申请日： | 2021-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN216026941U | 公开（公告）日： | 2022-03-15 |
| 发明（设计）人： | 兰升友;徐瑞林;易熊军;文成龙;王浪 | 申请（专利权）人： | 重庆康佳光电技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | B08B13/00 | 分类号： | B08B13/00;B08B3/08;B08B3/04;H01L21/67;H01L21/02;G01N27/06 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 成亚婷 |
| 地址： | 402760 重庆市璧*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 清洁 装置 设备 | ||
1.一种晶圆清洁装置，其特征在于，包括：清洗槽体和阻值监测计；
所述清洗槽体包括：
清洗槽；
旁流槽，设置于所述清洗槽的旁侧；
以及，隔板，设置于所述旁流槽和所述清洗槽之间；所述隔板上设有多个连通结构，所述连通结构用于连通所述清洗槽和所述旁流槽，以使所述清洗槽体内的晶圆清洗液在所述清洗槽和所述旁流槽之间流通；
其中，所述阻值监测计设置于所述旁流槽内，所述阻值监测计用于对所述晶圆清洗液进行阻值监测。
2.如权利要求1所述的晶圆清洁装置，其特征在于，所述晶圆清洁装置还包括：
晶圆台，设置于所述清洗槽内，用于承载晶圆；所述晶圆台的台面与所述旁流槽的槽底面位于同一平面。
3.如权利要求1或2所述的晶圆清洁装置，其特征在于，所述阻值监测计可拆卸地设置于所述旁流槽的槽底面上。
4.如权利要求1或2所述的晶圆清洁装置，其特征在于，所述连通结构包括：沿所述隔板的厚度方向贯穿所述隔板的连通孔。
5.如权利要求4所述的晶圆清洁装置，其特征在于，
多个所述连通孔的横截面积沿远离所述旁流槽的槽底面的方向逐渐减小；
或，多个所述连通孔的横截面积相同。
6.如权利要求1或2所述的晶圆清洁装置，其特征在于，
至少一个所述连通结构的靠近所述旁流槽的部分边缘与所述旁流槽的槽底面位于同一平面；
或，至少一个所述连通结构的靠近所述旁流槽的部分边缘与所述旁流槽的槽底面之间的竖直距离小于第一阈值。
7.如权利要求1所述的晶圆清洁装置，其特征在于，多个所述连通结构呈阵列状分布。
8.如权利要求1所述的晶圆清洁装置，其特征在于，所述旁流槽的数量为两个；两个所述旁流槽分别设置于所述清洗槽的相对的两侧，且每个所述旁流槽内均设置有所述阻值监测计。
9.如权利要求1所述的晶圆清洁装置，其特征在于，所述隔板与所述清洗槽体可拆卸连接。
10.一种晶圆清洁设备，其特征在于，包括：至少一个如权利要求1～9中任一项所述的晶圆清洁装置。
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