[实用新型]加热装置和真空镀膜设备有效

专利信息
申请号: 202121148667.8 申请日: 2021-05-26
公开(公告)号: CN214991841U 公开(公告)日: 2021-12-03
发明(设计)人: 左国军;梁建军;候岳明;朱海剑 申请(专利权)人: 常州捷佳创精密机械有限公司
主分类号: C23C16/46 分类号: C23C16/46;C23C16/50;C23C16/52
代理公司: 北京友联知识产权代理事务所(普通合伙) 11343 代理人: 尚志峰;王淑梅
地址: 213133 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 加热 装置 真空镀膜 设备
【说明书】:

本实用新型的实施例提供了一种加热装置和真空镀膜设备,加热装置包括:加热腔体,其内适于传送待加热件;第一加热件,位于待加热件的上方和/或下方;以及至少两个第二加热件,位于待加热件的传送方向的两侧。从而有效降低待加热件端部与中心部位的温差,实现待加热件整体温度的均匀性,避免相关技术中为保证待加热件各个位置加热温度的均匀性,将底部加热管设置的较长以增大加热区域,导致加热装置尺寸增大,增加产品成本的问题,提高具有该加热装置的真空镀膜设备的实用性。

技术领域

本实用新型的实施例涉及等离子体增强化学气相沉积设备技术领域,具体而言,涉及一种加热装置和一种真空镀膜设备。

背景技术

目前,PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,等离子体增强化学气相沉积法)设备,通过加热腔内的红外灯管对载板及硅片进行加热,使载板及硅片达到需要的温度,然后流转至下一工艺环节。

然而,由于红外灯管的边缘效应,同时加热腔的腔体侧壁与大气端存在对流换热,导致载板及硅片的边缘温度较低。相关技术中,将红外加热灯管的加热区域超出载板及硅片较多,依靠加长空间,实现温度均匀性,导致加热腔的腔体尺寸增加,增加产品的生产成本。

实用新型内容

本实用新型的实施例旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。

为此,本实用新型的实施例的第一方面提供了一种加热装置。

本实用新型的实施例的第二方面提供了一种真空镀膜设备。

公开号为CN 110656320 A的一件专利中,公开了一种加热灯管的布设方式为:多个主加热灯管布设在载板下方,补偿加热灯管呈L型,主加热灯管与补偿加热灯管在水平面上的正投影为矩形,为避让四个边角处的补偿加热灯管,所述多个主加热灯管长度需设置成部分不相等的情况。这种布设方式存在的问题:

当主热灯管与补偿灯管为同一平面时,不能在高度方向上实现热量补充,当主加热灯管布设与补偿灯管所在平面平行(不共面),由于主加热灯管长度设置的差异性,也不能有效实现有效的热量补充;多个长度灯管的布设,及L型这种特殊形状灯管的布设,增加灯管与设备安装复杂度。

本实用新型中的第一加热件和第二加热件相互配合实现加热的效果要优于上述现有的加热灯管布设方案的加热效果。第一加热件,不做不等长布设的要求,优选等长布设,等长布设可简化灯管与设备的安装;第二加热件,非特殊形状灯管,可简化灯管与设备的安装,且专用于在高度方向上实现热量的补充。因此本实用新型的技术方案可实现在不影响主要加热方式(即布设第一加热件的布设)的同时又能进行热量补偿(即布设第二加热件的布设)。

有鉴于此,根据本实用新型的实施例的第一方面,提供了一种加热装置,加热装置包括:加热腔体,其内适于传送待加热件;第一加热件,位于待加热件的上方和/或下方;以及至少两个第二加热件,位于待加热件的传送方向的两侧。

本实用新型实施例提供的加热装置包括加热腔体、第一加热件和至少两个第二加热件,具体而言,加热腔体内适于传送待加热件,能够理解的是,当将待加热件移入加热腔体内时,第一加热件和第二加热件能够对待加热件进行加热,从而使得待加热件达到需要的温度,当将待加热件加热至需要的温度后,将待加热件流转至下一工序。

第一加热件位于待加热件的上方和/或下方,具体地,第一加热件位于待加热件的下方,从而使得第一加热件能够从待加热件的下方对待加热件进行加热。第一加热件位于待加热件的上方,从而使得第一加热件能够从待加热件的上方对待加热件进行加热。第一加热件分别位于待加热件的上方和下方,从而使得待加热件能够从上下两个方向受热。具体可以根据实际需要进行设置。能够理解的是,当第一加热件分别位于待加热件的上方和下方时,能够进一步提高对待加热件的加热效果,缩短对待加热件的加热时间,提高生产效率。

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