[实用新型]一种刻蚀设备用防刻蚀过度机构有效
| 申请号: | 202121113070.X | 申请日: | 2021-05-24 |
| 公开(公告)号: | CN215815795U | 公开(公告)日: | 2022-02-11 |
| 发明(设计)人: | 穆亚琦;刘站站;任景洲;穆小东;刘金军;张磊 | 申请(专利权)人: | 常州阿普智能科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/027 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 213001 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 刻蚀 备用 过度 机构 | ||
一种刻蚀设备用防刻蚀过度机构,本实用新型涉及刻蚀设备技术领域;刻蚀台本体的上侧左右对称固定有固定块,左侧的固定块的左侧固定有横向驱动电机,横向驱动电机的输出轴穿过该固定后,固定有驱动丝杆,驱动丝杆上通过螺纹旋转套设有横向移动支座,刻蚀台本体上前后对称固定有滑轨,横向移动支座通过其底部的槽体左右滑动设置在滑轨上,横向移动支座中的后侧垂直端上固定有纵向驱动电机,纵向驱动电机的输出轴穿过该垂直端后,固定有导向丝杆,导向丝杆的前端通过轴承旋接设置在横向移动支座中的前侧垂直端内;通过带动限位块进行移动,使工件移动,从而避免工件移动过度,从而提高了刻蚀的精准度。
技术领域
本实用新型涉及刻蚀设备技术领域,具体涉及一种刻蚀设备用防刻蚀过度机构。
背景技术
刻蚀设备的发展和光刻技术,互连技术密切相关,刻蚀相对光刻要容易,光刻机把图案印上去,然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案(或者没有图案)的部分,留下剩余的部分;刻蚀过程中需要带动工件进行移动,在工件上不同的位置处进行刻蚀操作,然而,经常出现工件移动过度的情况,导致刻蚀的位置发生错误,导致工件产生不良品。
实用新型内容
本实用新型的目的在于针对现有技术的缺陷和不足,提供一种设计合理的刻蚀设备用防刻蚀过度机构,通过带动限位块进行移动,使工件移动,从而避免工件移动过度,从而提高了刻蚀的精准度。
为达到上述目的,本实用新型采用了下列技术方案:它包含刻蚀台本体、横向移动支座和纵向移动支座,刻蚀台本体的上侧左右对称固定有固定块,左侧的固定块的左侧固定有横向驱动电机,横向驱动电机的输出轴穿过该固定后,固定有驱动丝杆,驱动丝杆的右端与右侧的固定块通过轴承旋接设置,驱动丝杆上通过螺纹旋转套设有横向移动支座,刻蚀台本体上前后对称固定有滑轨,横向移动支座通过其底部的槽体左右滑动设置在滑轨上,横向移动支座为“U”形结构设置,横向移动支座中的后侧垂直端上固定有纵向驱动电机,纵向驱动电机的输出轴穿过该垂直端后,固定有导向丝杆,导向丝杆的前端通过轴承旋接设置在横向移动支座中的前侧垂直端内,导向丝杆上通过螺纹旋转套设有纵向移动支座,纵向移动支座的底部左右对称固定有导轨,横向移动支座中的水平端上左右对称开设有导槽,导轨前后滑动设置在导槽内;横向驱动电机、纵向驱动电机均与刻蚀机内的电源连接。
优选地,所述的横向移动支座内左右对称固定有导杆,纵向移动支座前后滑动套设在导杆上。
优选地,所述的纵向移动支座的左右两侧的上端均开设有开槽,开槽的垂直端内壁上固定有一号电动推杆,一号电动推杆的推动端上固定有限位架,限位架为倒“L”形结构设置,限位架中的水平端设置于纵向移动支座的上方,且限位架中的水平端的底部固定有二号电动推杆,二号电动推杆的底部推动端上固定有压块,一号电动推杆、二号电动推杆均与刻蚀机内的电源连接。
优选地,所述的压块的底部固定有压垫。
优选地,所述的开槽的底部贯通开设有限位槽,限位架中的垂直端的底部固定有限位支块,限位支块左右滑动设置在限位槽内。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型中所述的一种刻蚀设备用防刻蚀过度机构,通过带动限位块进行移动,使工件移动,从而避免工件移动过度,从而提高了刻蚀的精准度。
附图说明:
图1是本实用新型的结构示意图。
图2是图1的俯视图。
图3是图中A-A向剖视图。
图4是图3中B部放大图。
图5是图3中C部放大图。
图6是图3中D部放大图。
附图标记说明:
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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