[实用新型]转换晶周治具有效
| 申请号: | 202121066782.0 | 申请日: | 2021-05-18 |
| 公开(公告)号: | CN215644419U | 公开(公告)日: | 2022-01-25 |
| 发明(设计)人: | 韦世敏;谢刚刚;陈永洪;卢旭坤;袁俊;张亦锋 | 申请(专利权)人: | 广东利扬芯片测试股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673;H01L21/677 |
| 代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 张艳美;毛伟碧 |
| 地址: | 523000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 转换 晶周治具 | ||
1.一种转换晶周治具,包括底板和推杆,所述底板的上表面设有两个用于放置晶周的第一放置区及第二放置区,所述第一放置区及所述第二放置区呈相邻设置,所述推杆滑动地设于所述底板的底部并相对所述底板水平移动,所述推杆具有从底部延伸向上并位于所述底板一侧的推杆主体,所述第一放置区与所述推杆主体邻设,所述推杆主体的移动带动所述第一放置区的晶周内的晶圆进入所述第二放置区的晶周内,其特征在于,还包括防动机构,所述防动机构为两个并分别位于所述第一放置区及所述第二放置区,所述防动机构设于所述底板内,所述防动机构具有抵挡位置及避让位置,当所述第一放置区或所述第二放置区没有放置晶周时,其位置处的所述防动机构位于所述抵挡位置,所述防动机构阻挡所述推杆移动;当所述第一放置区或所述第二放置区放上晶周时,所述防动机构位于所述避让位置,所述推杆可相对所述底板移动。
2.根据权利要求1所述的转换晶周治具,其特征在于,所述防动机构包括枢轴、杠杆、感应件及抵挡件,所述枢轴位于所述底板内,所述枢轴还设于所述杠杆上,所述杠杆的一端设有所述感应件,所述杠杆的另一端设有所述抵挡件,所述抵挡件恒具有向下伸出于底板的趋势,所述感应件露出于所述底板的顶面上。
3.根据权利要求2所述的转换晶周治具,其特征在于,所述防动机构位于所述抵挡位置时,所述抵挡件于所述推杆的移动方向上抵挡所述推杆。
4.根据权利要求2所述的转换晶周治具,其特征在于,所述防动机构还包括弹性件,所述弹性件的一端抵挡所述底板,所述弹性件的另一端抵挡所述抵挡件,所述弹性件恒具有驱使所述抵挡件向下伸出于所述底板的趋势。
5.根据权利要求2所述的转换晶周治具,其特征在于,初始时,所述感应件以所述枢轴为原点所受到的重力力矩小于所述抵挡件以所述枢轴为原点所受到的重力力矩。
6.根据权利要求1所述的转换晶周治具,其特征在于,所述推杆包括滑动主体、推板及所述推杆主体,所述滑动主体与所述推杆主体为一体结构并共同形成C形杆,所述滑动主体滑动地设于所述底板的底部,所述推板连接于所述推杆主体上。
7.根据权利要求1所述的转换晶周治具,其特征在于,所述底板靠近所述推杆主体的一侧设有避让所述推杆主体移动的凹槽,所述推杆主体可沿所述凹槽移动。
8.根据权利要求1所述的转换晶周治具,其特征在于,所述第一放置区设有供晶周定位的第一定位条,所述第二放置区设有供晶周定位的第二定位条;所述底板的相对两侧设有供晶周定位的定位块。
9.根据权利要求1所述的转换晶周治具,其特征在于,所述底板的底部设有导杆和穿置于所述导杆上的滑块,所述滑块相对所述导杆滑动,所述推杆与所述导杆连接。
10.根据权利要求9所述的转换晶周治具,其特征在于,还包括操作手柄,所述操作手柄与所述滑块或所述推杆连接,所述操作手柄位于所述底板的前侧。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





