[实用新型]一种腔内体积可调的快速气相沉积反应器有效

专利信息
申请号: 202120866405.9 申请日: 2021-04-25
公开(公告)号: CN215251160U 公开(公告)日: 2021-12-21
发明(设计)人: 冯昊;李建国;张王乐;惠龙飞;龚婷 申请(专利权)人: 西安近代化学研究所
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/52
代理公司: 西安恒泰知识产权代理事务所 61216 代理人: 金艳婷
地址: 710065 陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 体积 可调 快速 沉积 反应器
【说明书】:

本实用新型公开了一种腔内体积可调的快速气相沉积反应器,包括反应器腔室和体积调节器;反应器腔室上设置有进气口、出气口和样品取送口;体积调节器包括体积占空件以及用于与反应器腔室连接的连接部,体积占空件的体积小于反应器腔室的内腔体体积,且体积占空件与反应器腔室的内腔体底面之间设置有样品放置空间;进气口、出气口均与样品放置空间连通;样品取送口的尺寸与体积占空件的尺寸匹配,连接部与样品取送口密封连接。本实用新型根据待处理样品的尺寸大小对体积调节器的体积进行调整,进而实现气相沉积装置反应器腔内体积与待处理样品尺寸的匹配,实现待处理样品表面目标薄膜的快速气相沉积。

技术领域

本实用新型属于气相沉积反应装置技术领域,具体涉及一种腔内体积可调的快速气相沉积反应器。

背景技术

气相沉积是利用一种或多种气态或蒸汽态的前驱体物质在气相或气固界面上分解或者反应生成固态沉积物的技术,常见的气相沉积过程包括原子层沉积(ALD)与化学气相沉积(CVD)。气相沉积过程,特别是ALD过程需要将反应过程中过量的气态反应物或副产物抽离反应腔室,因此反应腔室的大小直接影响反应过程的速度。当前,不同的气相沉积设备的反应腔室可以是水平管式反应腔室、垂直管式反应腔室、垂直锅式反应腔室等,同一种反应腔室的腔内体积均不可调且不同反应腔室内的体积均按照可能处理样品的最大量进行设计。当反应腔室实际处理样品的数量或体积远小于其设计处理能力时,会因反应腔体过大而造成反应速度低下、过程长以及资源浪费等系列问题。

发明内容

为解决现有技术中存在的不足,本实用新型提供了一种腔内体积可调的快速气相沉积反应器,解决现有的反应腔体过大而造成反应速度低下、过程长及资源浪费的问题。

为了解决上述技术问题,本实用新型采用如下技术方案予以实现:

一种腔内体积可调的快速气相沉积反应器,包括反应器腔室和体积调节器;所述反应器腔室上设置有进气口、出气口和样品取送口;所述体积调节器包括体积占空件以及用于与反应器腔室连接的连接部,所述体积占空件的体积小于反应器腔室的内腔体体积,且体积占空件与反应器腔室的内腔体底面之间设置有样品放置空间;所述进气口、出气口均与所述的样品放置空间连通;所述样品取送口的尺寸与体积占空件的尺寸匹配,所述连接部与样品取送口密封连接。

优选的,所述样品取送口设置在反应器腔室的顶部,所述进气口和出气口相对设置在反应器腔室靠近其底部的侧壁上。

具体的,所述连接部包括盖板和螺栓,所述盖板上设置有第一螺纹孔和用于放置密封圈的第一密封圈槽,所述第一螺纹孔设置在第一密封圈槽外;所述样品取送口处设置有法兰,所述法兰上设置有与第一螺纹孔位置对应的第二螺纹孔以及与第一密封圈槽位置对应的第二密封圈槽。

具体的,所述盖板与体积占空件之间焊接或者通过螺柱可拆卸连接。

优选的,所述体积占空件为外部轮廓形状与反应器腔室内壁轮廓匹配形状的中空件。

进一步的,所述反应器腔室上还设置有用于安装原位表征装置的原位表征接口。

进一步的,所述反应器腔室上还设置有透视窗口。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

本实用新型根据待处理样品的尺寸大小对体积调节器的体积进行调整,进而实现气相沉积装置反应器腔内体积与待处理样品尺寸的匹配,实现待处理样品表面目标薄膜的快速气相沉积。

本实用新型的其他优点在具体实施方中进行详细说明。

附图说明

图1是本实用新型其中一实施例记载的反应器腔室结构示意图。

图2是本实用新型其中一实施例记载的体积调节器结构示意图。

图3是本实用新型另一实施例记载的体积调节器结构示意图。

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