[实用新型]晶圆承载装置有效
| 申请号: | 202120492563.2 | 申请日: | 2021-03-08 |
| 公开(公告)号: | CN215118864U | 公开(公告)日: | 2021-12-10 |
| 发明(设计)人: | 王建;胡喆 | 申请(专利权)人: | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68;H01L21/677 |
| 代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 邵磊;张颖玲 |
| 地址: | 430074 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 承载 装置 | ||
本实用新型实施例提供了一种晶圆承载装置,包括:承载本体、多个位置检测部件和处理器;其中,多个位置检测部件设置在承载本体上;位置检测部件,用于检测晶圆在第一平面的投影与位置检测部件在第一平面的投影是否存在重叠,并将检测结果发送给处理器;第一平面与晶圆的表面平行;承载本体,用于在处理器的控制下在距离晶圆表面一段距离的平面上沿第一方向移动;第一方向与晶圆表面平行;处理器,用于通过多个位置检测部件的检测结果,确定承载本体相对于晶圆的位置是否满足预设条件;处理器,还用于在确定承载本体相对于晶圆的位置满足预设条件时,控制承载本体向靠近晶圆表面的方向移动至晶圆表面所处的位置处,以使晶圆置于承载本体上。
技术领域
本实用新型涉及半导体技术领域,尤其涉及一种晶圆承载装置。
背景技术
在半导体的制造过程中,需要将放置在晶圆存放装置(如晶圆传送盒(英文可以表达为Foup))中的晶圆(英文可以表达为Wafer)取出,然后传送至另一晶圆存放装置(如半导体工艺处理机台的反应腔室)中。实际应用中,一般采用机械手来执行前述取出操作。在机械手执行晶圆取出操作的过程中,需要将机械手放置在晶圆的下方离晶圆背面一段距离处,并移动机械手,以调整机械手与晶圆的相对位置,使得机械手与晶圆达到对准状态,之后,向上移动机械手,以使机械手托住晶圆,从而机械手能够带动晶圆移动至另一个晶圆存放装置中。然而,相关技术中,机械手执行晶圆取出操作的过程耗时长,效率低。
实用新型内容
为解决相关技术问题,本实用新型实施例提出一种晶圆承载装置。
本实用新型实施例提供了一种晶圆承载装置,包括:承载本体、多个位置检测部件和处理器;其中,
所述多个位置检测部件设置在所述承载本体上;
所述位置检测部件,用于检测晶圆在第一平面的投影与所述位置检测部件在所述第一平面的投影是否存在重叠,并将检测结果发送给所述处理器;所述第一平面与所述晶圆的表面平行;
所述承载本体,用于在所述处理器的控制下在距离所述晶圆表面一段距离的平面上沿第一方向移动;所述第一方向与所述晶圆表面平行;
所述处理器,用于通过所述多个位置检测部件的检测结果,确定所述承载本体相对于所述晶圆的位置是否满足预设条件;
所述处理器,还用于在确定所述承载本体相对于所述晶圆的位置满足所述预设条件时,控制所述承载本体向靠近晶圆表面的方向移动至所述晶圆表面所处的位置,以使所述晶圆置于所述承载本体上。
上述方案中,所述多个位置检测部件包括两个位置检测部件,所述两个位置检测部件对称地设置在所述承载本体上;
所述处理器,具体用于:
在所述承载本体沿第一方向移动的过程中,当所述两个位置检测部件在所述第一平面的投影与所述晶圆在第一平面的投影同时由存在重叠变为不存在重叠时,确定所述承载本体相对于所述晶圆的位置满足预设条件。
上述方案中,所述处理器,还用于:
在确定所述承载本体相对于所述晶圆的位置存在偏差时,控制所述承载本体在距离所述晶圆表面一段距离的平面上沿第二方向移动,以调整所述承载本体相对于所述晶圆的位置;所述第一方向与所述第二方向垂直。
上述方案中,所述处理器,具体用于:
在所述承载本体沿第一方向移动的过程中,通过所述两个位置检测部件在所述第一平面的投影与所述晶圆在第一平面的投影由不存在重叠变为存在重叠对应的时间差,确定所述承载本体相对于所述晶圆的位置偏差。上述方案中,所述承载装置还包括:距离检测部件;
所述距离检测部件设置在所述承载本体上,用于在所述承载本体相对于所述晶圆的位置满足预设条件后,测量所述承载本体与所述晶圆之间的垂直距离;
所述处理器,具体用于:
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





