[实用新型]一种平板式PECVD石墨框有效
| 申请号: | 202120126354.6 | 申请日: | 2021-01-18 |
| 公开(公告)号: | CN215050683U | 公开(公告)日: | 2021-12-07 |
| 发明(设计)人: | 赵洪俊;宛正;李影 | 申请(专利权)人: | 阜宁苏民绿色能源科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/50 |
| 代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林 |
| 地址: | 224400 江苏省盐*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 平板 pecvd 石墨 | ||
1.一种平板式PECVD石墨框,其特征在于:包括石墨框本体,在所述石墨框本体的凹槽底部的一侧直角边或平行的一组直角边的位置设置为倾斜面,在所述凹槽的顶部,沿着所述石墨框本体的四周边框还设置了直角三棱柱挡板,所述三棱柱挡板的斜面朝向凹槽的内侧方向设置。
2.根据权利要求1所述的一种平板式PECVD石墨框,其特征在于:所述的倾斜面平行于石墨框运行的方向。
3.根据权利要求1所述的一种平板式PECVD石墨框,其特征在于:所述倾斜面与所述凹槽底面的夹角为15°-60°,所述倾斜面所对应的高度为所述凹槽深度的0.6-0.8倍。
4.根据权利要求1所述的一种平板式PECVD石墨框,其特征在于:所述三棱柱挡板的斜面与所述石墨框本体的边框的夹角为15°-60°,所述三棱柱挡板的高度为2-5mm。
5.根据权利要求3或4所述的一种平板式PECVD石墨框,其特征在于:所述三棱柱挡板的高度大于或等于所述倾斜面的倾斜高度。
6.根据权利要求1所述的一种平板式PECVD石墨框,其特征在于:所述三棱柱挡板采用固定的方式设置在所述凹槽顶部的边框上,所述三棱柱挡板的斜面对应于下方的棱边与所述边框位于内侧的边缘线重合。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





