[实用新型]一种等离子体真空镀膜室

说明书

本实用新型提供了一种等离子体真空镀膜室，包括镀膜室，镀膜室的顶部设有密封盖，底部设有出气口；镀膜室的侧壁上设有进气口，进气口的内侧设有分流板；镀膜室的底部安装有转动盘，转动盘的转轴通过联轴器与旋转电机的输出轴固定连接；物料架放置在转动盘上，物料架的外围安装有两个相对设置的弧形电极板；利用分流板使反应气体尽可能均匀的分布在镀膜室内，利用转动盘驱动物料架旋转，使反应物质能均匀的沉积在工件表面，保证了镀膜质量。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜领域，具体涉及一种等离子体真空镀膜室。

背景技术

等离子体镀膜一般都是在真空镀膜室内设置两个相对的平板电极结构，在两个电极之间加正负电压以使得两个平板电极之间辉光放电产生等离子体，等离子体在电场的作用下进行高速运动并与中性反应气体发生碰撞，从而使得中性反应气体分子变成离子状态或者处于激活状态，这些具有高活性的反应物质很容易被吸附于被镀基板表面发生非平衡的化学反应而沉积到基板表面而生成薄膜。但是由于等离子体与反应气体的高速碰撞存在着一定程度的不可控制性，现有的等离子体镀膜装置在镀膜时很难保证薄膜的均匀性和一致性。

实用新型内容

针对上述技术问题，本实用新型提供了一种等离子体真空镀膜室。

一种等离子体真空镀膜室，包括镀膜室以及设于镀膜室内的物料架；所述镀膜室的顶部设有密封盖，镀膜室的底部设有出气口，镀膜室的侧壁上设有进气口，进气口的内侧设有弧形的分流板；所述镀膜室的底部安装有转动盘，所述转动盘的转轴通过联轴器与一旋转电机的输出轴固定连接；所述物料架放置在所述转动盘上，物料架的外围安装有两个相对设置的弧形电极板。

优选的，所述弧形电极板的顶部均设有沿其弧线方向延伸的连接杆；所述镀膜室的侧壁上设有安装板，两根接线杆穿过所述安装板分别与两根连接杆固定连接。

优选的，所述分流板与所述镀膜室的内侧壁固定连接，分流板内设有与所述进气口相连通的分流腔，分流腔的两侧由上至下均匀的设置有多个分流孔。

本实用新型的有益效果是：利用分流板使反应气体尽可能均匀的分布在镀膜室内，同时利用转动盘驱动弧形电极板之间的物料架旋转，使反应物质能均匀的沉积在工件表面，从而提高了镀膜的均匀性和一致性，保证了镀膜质量。

附图说明

下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。

图1为本实用新型实施例的外部结构示意图；

图2为本实用新型实施例的内部结构示意图；

图3为本实用新型实施例中镀膜室的俯视图；

图中数字表示：

1、镀膜室2、密封盖3、出气口4、进气口5、分流板6、分流孔

7、转动盘8、旋转电机9、物料架10、弧形电极板11、连接杆

12、安装板13、接线杆。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。

本实用新型的描述中，需要理解的是，术语中“上”、“下”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了方便描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位，以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。