[实用新型]一种等离子体真空镀膜室有效
| 申请号： | 202120090899.6 | 申请日： | 2021-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN214458315U | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 渠艳良;李雷 | 申请（专利权）人： | 派珂纳米科技（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/50 | 分类号： | C23C16/50;C23C16/455;C23C16/458 |
| 代理公司： | 苏州创策知识产权代理有限公司 32322 | 代理人： | 范圆圆 |
| 地址： | 215000 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 真空镀膜 | ||
【权利要求书】：
1.一种等离子体真空镀膜室，其特征在于：包括镀膜室以及设于镀膜室内的物料架；所述镀膜室的顶部设有密封盖，镀膜室的底部设有出气口，镀膜室的侧壁上设有进气口，进气口的内侧设有弧形的分流板；所述镀膜室的底部安装有转动盘，所述转动盘的转轴通过联轴器与一旋转电机的输出轴固定连接；所述物料架放置在所述转动盘上，物料架的外围安装有两个相对设置的弧形电极板。
2.根据权利要求1所述的一种等离子体真空镀膜室，其特征在于：所述弧形电极板的顶部均设有沿其弧线方向延伸的连接杆；所述镀膜室的侧壁上设有安装板，两根接线杆穿过所述安装板分别与两根连接杆固定连接。
3.根据权利要求2所述的一种等离子体真空镀膜室，其特征在于：所述分流板与所述镀膜室的内侧壁固定连接，分流板内设有与所述进气口相连通的分流腔，分流腔的两侧由上至下均匀的设置有多个分流孔。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
