[发明专利]一种外参标定方法及控制设备在审
| 申请号: | 202111663443.5 | 申请日: | 2021-12-31 |
| 公开(公告)号: | CN116416315A | 公开(公告)日: | 2023-07-11 |
| 发明(设计)人: | 郑月 | 申请(专利权)人: | 华为技术有限公司 |
| 主分类号: | G06T7/80 | 分类号: | G06T7/80 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 518129 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 标定 方法 控制 设备 | ||
1.一种外参标定方法,其特征在于,包括:
控制设备向第一投影设备发送第一投影指令,所述第一投影指令用于指示所述第一投影设备投射第一外参标定图案;
所述控制设备向第一摄影设备和第二摄影设备分别发送第一摄影指令,所述第一摄影指令用于指示所述第一摄影设备和所述第二摄影设备拍摄所述第一外参标定图案;
所述控制设备接收来自所述第一摄影设备的第一图像和来自所述第二摄影设备的第二图像,所述第一图像为所述第一摄影设备拍摄所述第一外参标定图案所得到的图像,所述第二图像为所述第二摄影设备拍摄所述第一外参标定图案得到的图像;
所述控制设备根据所述第一外参标定图案在所述第一投影设备中的投影坐标、所述第一外参标定图案在所述第一图像中的像素坐标、所述第一外参标定图案在所述第二图像中的像素坐标,确定所述第一摄影设备与所述第二摄影设备之间的外参。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一外参标定图案在所述第一投影设备中的投影坐标包括:所述第一外参标定图案上的关键特征点在所述第一投影设备中的投影坐标P1。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述第一外参标定图案在所述第一图像中的像素坐标包括:所述关键特征点在所述第一图像中的像素坐标U1;所述第一外参标定图案在所述第二图像中的像素坐标包括:所述关键特征点在所述第二图像中的像素坐标U2。
4.根据权利要求1至3任意一项所述的方法,其特征在于,所述控制设备还根据所述第一摄影设备与所述第一投影设备之间的外参、所述第一投影设备的内参、所述第一摄影设备的内参、所述第二摄影设备的内参,确定所述第一摄影设备与所述第二摄影设备之间的外参;所述第一摄影设备与所述第一投影设备之间的外参包括旋转参数和平移参数,所述第一投影设备的内参、所述第一摄影设备的内参、所述第二摄影设备的内参包括焦距、主点位置、畸变参数中的至少一个。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述确定所述第一摄影设备与所述第二摄影设备之间的外参包括:
所述控制设备根据所述关键特征点的像素坐标U1、所述关键特征点的投影坐标P1、所述第一摄影设备与所述第一投影设备之间的外参、所述第一投影设备的内参、所述第一摄影设备的内参,确定所述关键特征点在三维空间中的坐标X,所述三维空间以所述第一摄影设备的光心为原点;
所述控制设备根据所述关键特征点在所述第一图像中的像素坐标U1、所述关键特征点在所述第二图像中的像素坐标U2、所述关键特征点在所述三维空间中的坐标X、所述第二摄影设备的内参,确定所述第一摄影设备与所述第二摄影设备之间的外参。
6.根据权利要求1至5任意一项所述的方法,其特征在于,包括:所述第一外参标定图案包括多个第一标定图案,所述多个第一标定图案的姿态不同。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,每个所述第一标定图案都具有所述关键特征点;所述外参标定图案在所述第一投影设备中的投影坐标包括:每个所述关键特征点在所述第一投影设备中的投影坐标P1;所述第一外参标定图案在所述第一图像中的像素坐标包括:每个所述关键特征点在所述第一图像中的像素坐标U1;所述第一外参标定图案在所述第二图像中的像素坐标包括:每个所述关键特征点在所述第二图像中的像素坐标U2。
8.根据权利要求1至5任意一项所述的方法,其特征在于,所述指示所述第一投影设备投射第一外参标定图案,包括:
指示所述第一投影设备依次在不同区域投射所述第一外参标定图案;或者,
指示所述第一投影设备依次在同一区域投射姿态不同的第一外参标定图案。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述第一外参标定图案在所述第一图像中的像素坐标包括:每个所述第一图像中的关键特征点在相应第一图像中的像素坐标U1;所述第一外参标定图案在所述第二图像中的像素坐标包括:每个所述第二图像中的关键特征点在相应第二图像中的像素坐标U2。
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