[发明专利]显示基板及其制造方法、显示装置在审
申请号: | 202111652634.1 | 申请日: | 2021-12-30 |
公开(公告)号: | CN114361220A | 公开(公告)日: | 2022-04-15 |
发明(设计)人: | 易宏;谷泉泳 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;G06F3/041 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 雷思鸣 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 及其 制造 方法 显示装置 | ||
1.一种显示基板,其特征在于,所述显示基板包括:
衬底基板,包括显示区域和至少部分围绕所述显示区域的周边区域;
显示走线,位于所述周边区域中且至少部分围绕所述显示区域;
屏蔽结构,位于所述显示走线远离所述衬底基板的一侧,所述屏蔽结构在所述衬底基板上的正投影位于所述周边区域中;
触控走线,位于所述屏蔽结构远离所述衬底基板一侧,所述触控走线在所述衬底基板上的正投影位于所述周边区域中且至少部分围绕所述显示区域;
其中,所述显示走线、所述屏蔽结构和所述触控走线这三者在所述衬底基板上的正投影至少部分重叠。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,
所述显示区域包括第一边界,所述周边区域包括沿所述第一边界延伸的第一周边区域,所述屏蔽结构在所述衬底基板上的正投影位于所述第一周边区域中。
3.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,
所述屏蔽结构包括第一屏蔽部和第二屏蔽部,所述第一屏蔽部和第二屏蔽部关于所述显示基板的第一截面对称,所述第一截面与所述第一边界垂直。
4.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,
所述第一截面与所述衬底基板的交线平分所述第一边界。
5.根据权利要求3或4所述的显示基板,其特征在于,
所述显示区域还包括第二边界和第三边界,所述第二边界和所述第三边界分别与所述第一边界相交,所述第一屏蔽部在所述衬底基板上的正投影靠近所述第一边界与所述第二边界的相交位置,所述第二屏蔽部在所述衬底基板上的正投影靠近所述第一边界与所述第三边界的相交位置。
6.根据权利要求3至5任一项所述的显示基板,其特征在于,
所述第一屏蔽部与所述第二屏蔽部之间的距离的范围为50毫米~60毫米。
7.根据权利要求1至6任一项所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还包括:
负电源线,位于所述显示走线远离所述衬底基板的一侧,所述负电源线在所述衬底基板上的正投影位于所述周边区域中且至少部分围绕所述显示区域;
所述屏蔽结构位于所述负电源线远离所述衬底基板的一侧,所述屏蔽结构与所述负电源线电连接,所述屏蔽结构在所述衬底基板上的正投影与所述负电源线在所述衬底基板上的正投影至少部分重叠。
8.根据权利要求7所述的显示基板,其特征在于,
所述屏蔽结构与所述负电源线的重叠区域的宽度的范围为50微米~60微米,所述屏蔽结构与所述负电源线的重叠区域为所述屏蔽结构在所述衬底基板上的正投影与所述负电源线在所述衬底基板上的正投影的重叠区域。
9.根据权利要求7或8所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还包括:
阴极,位于所述屏蔽结构远离所述衬底基板的一侧,所述阴极与所述负电源线电连接,所述触控走线位于所述阴极远离所述衬底基板的一侧;
所述屏蔽结构在所述衬底基板上的正投影与所述阴极在所述衬底基板上的正投影至少部分重叠。
10.根据权利要求9所述的显示基板,其特征在于,
所述屏蔽结构与所述阴极的重叠区域的宽度的范围为20微米~25微米,所述屏蔽结构与所述阴极的重叠区域为所述屏蔽结构在所述衬底基板上的正投影与所述阴极在所述衬底基板上的正投影的重叠区域。
11.根据权利要求7至10任一项所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还包括:
正电源线,位于所述显示走线远离所述衬底基板的一侧,所述正电源线在所述衬底基板上的正投影位于所述周边区域中且至少部分围绕所述显示区域;
所述屏蔽结构在所述衬底基板上的正投影与所述正电源线在所述衬底基板上的正投影至少部分重叠。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的