[发明专利]一种气相外延生长装置

权利要求书

1.一种气相外延生长装置，其特征在于，包括：

第一容器，内部具有第一密闭空间；

第二容器，设置在所述第一密闭空间内，所述第二容器内设有金属液态源；

导体结构，设置在所述第一密闭空间内，并具有第二密闭空间或者与所述第一容器的底部形成第二密闭空间；

托盘，设置在所述第二密闭空间内，并用于放置籽晶；

气体输运系统，设置在所述第一容器外，并通过多个进气管将气体输送至所述托盘处，其中一个进气管连通所述第二容器；

加热系统，设置在所述第一容器外，包括用于对载气及所述金属液态源进行加热的加热器和对所述导体结构进行感应加热的感应线圈；

隔离结构，所述隔离结构设置在所述第二密闭空间内，并位于所述导体结构的侧壁和所述托盘之间；所述隔离结构上开设有多个通孔，所述隔离结构的底部转动连接所述第一容器的底部；

第二旋转驱动件，所述第二旋转驱动件设置在所述第一容器外，所述第二旋转驱动件驱动连接所述隔离结构，用于驱动所述隔离结构旋转。

2.根据权利要求1所述的气相外延生长装置，其特征在于，所述导体结构为筒状，包括筒壁和筒盖，所述筒壁、所述筒盖和所述第一容器的底部形成所述第二密闭空间。

3.根据权利要求1所述的气相外延生长装置，其特征在于，所述第一容器的侧壁和所述导体结构的侧壁之间设置有至少一层隔热层。

4.根据权利要求1所述的气相外延生长装置，其特征在于，还包括设置在所述第一容器外的第一旋转驱动件，所述第一旋转驱动件驱动连接有支撑杆，所述支撑杆贯穿所述第一容器的底部并连接所述托盘。

5.根据权利要求1所述的气相外延生长装置，其特征在于，所述多个进气管包括：

连通所述第二容器的第一管道，所述第一管道通入反应气体；

第二管道，所述第二管道通入隔离气体；

第三管道，所述第三管道通入反应气体。

6.根据权利要求1所述的气相外延生长装置，其特征在于，还包括真空尾气系统，所述真空尾气系统通过尾气管连通所述第二密闭空间；

所述气体输运系统还包括用于向所述第一密闭空间通入惰性气体的惰性气体管。

7.根据权利要求1所述的气相外延生长装置，其特征在于，还包括分别设置在所述第一容器外的第一测温系统、第二测温系统和控制系统，所述第一测温系统和所述第二测温系统分别连接所述控制系统；

所述第一测温系统用于测量所述籽晶的实时温度，所述第二测温系统用于测量所述导体结构的实时温度；

所述控制系统根据所述籽晶的设定温度和实时温度以及所述导体结构的设定温度和实时温度，控制通入所述感应线圈的电流大小；

所述感应线圈的匝数和各匝之间的间距疏密能够被调整。

8.根据权利要求1所述的气相外延生长装置，其特征在于，所述进气管的出气端连接有能够独立匀气的喷头管。

9.根据权利要求1所述的气相外延生长装置，其特征在于，所述隔离结构和所述导体结构的侧壁之间形成有收集通道，所述收集通道的底部连通有收集槽。

10.根据权利要求9所述的气相外延生长装置，其特征在于，所述气体输运系统还包括用于向所述隔离结构的内侧通入清扫气体的清扫气体管。