[发明专利]一种化学镍溶液及其制备方法有效
申请号: | 202111496605.0 | 申请日: | 2021-12-08 |
公开(公告)号: | CN114481103B | 公开(公告)日: | 2023-10-20 |
发明(设计)人: | 邹佳祁;廖润秋;简婷;杨晓晗 | 申请(专利权)人: | 胜宏科技(惠州)股份有限公司 |
主分类号: | C23C18/36 | 分类号: | C23C18/36;C23C18/34 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 黄丽娴 |
地址: | 516211 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 化学 溶液 及其 制备 方法 | ||
本发明公开了一种化学镍溶液及其制备方法,每1升化学镍溶液包括以下组成:镍盐:镍离子浓度4.6‑5.0g/L;还原剂:16‑20g/L;稳定剂:15‑35mg/L;络合剂:3‑5g/L;缓冲剂:6‑10.5g/L;启镀剂:0.5‑3.5g/L;表面活性剂:0.05‑0.5ml/L;应力剂:50‑70mg/L;水:余量。本发明的化学镍溶液的镀镍效果好、镍面晶胞均匀,不会出现镍腐蚀、镍面晶胞不均匀和因应力导致裂缝的情况;本制备方法的操作简单,成本低,制备得到的化学镍溶液具有很好的镀镍效果。
技术领域
本申请涉及化学镀技术领域,具体的说,尤其涉及一种化学镍溶液及其制备方法。
背景技术
化学镀又称为无电解镀,也可以称为自催化电镀,具体过程是指在一定条件下,水溶液中的金属离子被还原剂还原,并且沉淀到固态基体表面上的过程。镀镍、镀铜和镀金等镀金属工艺是PCB板制作的常见工艺。镀镍主要有两种方式:电镀镍和化学镀镍,电镀无法对一些形状复杂的工件进行全表面施镀,但化学镀可以对任何形状工件施镀,化学镀镍层是极为均匀的,几乎可以达到仿形的效果。化学镀镍层的镀层孔隙低、耐蚀抗力强,对于基体的保护作用优异。在PCB领域中,通过在PCB板的铜线路层与金属层之间形成镍层,可以避免铜金之间的相互扩散引起线路板可焊性差、使用寿命短的缺陷,同时形成的镍层也提高了金属层的机械强度。
化学镍是一种重要的处理技术,在中国发展仅仅只有二十余年。目前市场上化学镍药水供应商包括上村、日矿、宏达秋、罗门哈斯、安美特、溢诚电子等,然而国外的化学镍药水依然优于国内,现有化学镍溶液在对PCB板进行加工时,存在镍腐蚀严重、孔环和铜层上的镍面晶胞不均匀,以及会因内应力导致裂缝等问题。
发明内容
为了解决现有化学镍溶液存在镍腐蚀严重、镍面晶胞不均匀、镍面容易产生裂缝的问题,本发明提供一种化学镍溶液及其制备方法。
一种化学镍溶液,其特征在于:每1升化学镍溶液包括以下组成:
镍盐:镍离子浓度4.6-5.0g/L;
还原剂:16-20g/L;
稳定剂:15-35mg/L;
络合剂:3-5g/L;
缓冲剂:6-10.5g/L;
启镀剂:0.5-3.5g/L;
表面活性剂:0.05-0.5ml/L;
应力剂:50-70mg/L;
水:余量;
所述镍盐为硫酸镍、氯化镍、氨基磺酸镍盐中一种或几种。
可选的,所述还原剂为次亚磷酸钠和硫酸羟胺的混合物,次亚磷酸钠为12-15g/L:硫酸羟胺为4-5g/L,次亚磷酸钠和硫酸羟胺的混合比例为3:1。
可选的,所述稳定剂为能够提供锆离子的化合物。
可选的,所述络合剂为牛磺酸和绿原酸的混合物,牛磺酸为1.5-2.5g/L:绿原酸为1.5-2.5g/L,牛磺酸和绿原酸的混合比例为1:1。
可选的,所述缓冲剂为碳酸氢钠和磷酸二氢钾的混合物,碳酸氢钠为4-7g/L和磷酸二氢钾为2-3.5g/L,碳酸氢钠和磷酸二氢钾的混合比例为2:1。
可选的,所述启镀剂为健那绿。
可选的,所述表面活性剂为烷基糖苷和聚乙烯醇的混合物,烷基糖苷和聚乙烯醇的混合比例为1:1。
可选的,所述应力剂包括N,N亚甲基乙二胺。
一种化学镍溶液制备方法,包括以下步骤:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于胜宏科技(惠州)股份有限公司,未经胜宏科技(惠州)股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111496605.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:配煤方法
- 下一篇:还车方法、装置、设备、存储介质及程序产品
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理