[发明专利]一种改善划片崩边的方法在审
| 申请号: | 202111480941.6 | 申请日: | 2021-12-06 |
| 公开(公告)号: | CN114203536A | 公开(公告)日: | 2022-03-18 |
| 发明(设计)人: | 倪侠;邹有彪;张荣;王全;霍传猛;肖海林 | 申请(专利权)人: | 富芯微电子有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/228 | 分类号: | H01L21/228;H01L21/304;H01L21/78;H01L21/66 |
| 代理公司: | 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 | 代理人: | 胡阔雷 |
| 地址: | 230000 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 改善 划片 方法 | ||
1.一种改善划片崩边的方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤一:晶圆准备
选取MCZ硅单晶片,5寸晶向111,电阻率5.0-6.5Ω/cm,厚度220μm±10%;
步骤二:划片道掺杂
在炉温1120℃,氧气2L/min、氮气3L/min、携源氮气1.2L/min的工况下进行磷液态源淀积;
沉积后,在炉温1140℃,氧气2.5L/min、氮气4L/min的工况下进行磷源推进;
使用四探针测试扩散方块电阻0.6Ω±10%,结深12μm±10%。
2.根据权利要求1所述的一种改善划片崩边的方法,其特征在于,步骤二中划片道掺杂采用磷掺杂。
3.根据权利要求1所述的一种改善划片崩边的方法,其特征在于,步骤二中磷液态源淀积的时间为25min。
4.根据权利要求1所述的一种改善划片崩边的方法,其特征在于,步骤二中磷源推进的时间为150min。
5.根据权利要求1所述的一种改善划片崩边的方法,其特征在于,步骤一中的晶圆准备是通过双向裁剪台(1)对晶圆料两面进行双向同步裁切。
6.根据权利要求5所述的一种改善划片崩边的方法,其特征在于,所述双向裁剪台(1)整体呈U型结构,且在双向裁剪台(1)的上方固定设置有晶圆裁切台(101),所述双向裁剪台(1)的内部通过Y向丝杆(102)设置有移动基座(103),移动基座(103)上设置有龙门架(2),所述龙门架(2)两部上下两侧设置有用于晶圆料裁切的裁切机构。
7.根据权利要求6所述的一种改善划片崩边的方法,其特征在于,两个裁切机构结构完全一致。
8.根据权利要求7所述的一种改善划片崩边的方法,其特征在于,所述裁切机构包括固定设置在龙门架(2)内部的横向导向块(201),横向导向块(201)内部在竖直方向上开设有贯穿的条形槽口,横向导向块(201)的条形槽口上滑动连接有驱动腔体(203),所述驱动腔体(203)的内部竖直设置有Z向丝杆(204),Z向丝杆(204)上螺纹连接有纵向导向块(205),纵向导向块(205)经两侧的连接板贯穿驱动腔体(203)正面的滑槽连接裁切安装板(206),裁切安装板(206)上设置有裁切电机(207)。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





