[发明专利]一种改善划片崩边的方法在审

专利信息
申请号: 202111480941.6 申请日: 2021-12-06
公开(公告)号: CN114203536A 公开(公告)日: 2022-03-18
发明(设计)人: 倪侠;邹有彪;张荣;王全;霍传猛;肖海林 申请(专利权)人: 富芯微电子有限公司
主分类号: H01L21/228 分类号: H01L21/228;H01L21/304;H01L21/78;H01L21/66
代理公司: 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 代理人: 胡阔雷
地址: 230000 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 改善 划片 方法
【权利要求书】:

1.一种改善划片崩边的方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤一:晶圆准备

选取MCZ硅单晶片,5寸晶向111,电阻率5.0-6.5Ω/cm,厚度220μm±10%;

步骤二:划片道掺杂

在炉温1120℃,氧气2L/min、氮气3L/min、携源氮气1.2L/min的工况下进行磷液态源淀积;

沉积后,在炉温1140℃,氧气2.5L/min、氮气4L/min的工况下进行磷源推进;

使用四探针测试扩散方块电阻0.6Ω±10%,结深12μm±10%。

2.根据权利要求1所述的一种改善划片崩边的方法,其特征在于,步骤二中划片道掺杂采用磷掺杂。

3.根据权利要求1所述的一种改善划片崩边的方法,其特征在于,步骤二中磷液态源淀积的时间为25min。

4.根据权利要求1所述的一种改善划片崩边的方法,其特征在于,步骤二中磷源推进的时间为150min。

5.根据权利要求1所述的一种改善划片崩边的方法,其特征在于,步骤一中的晶圆准备是通过双向裁剪台(1)对晶圆料两面进行双向同步裁切。

6.根据权利要求5所述的一种改善划片崩边的方法,其特征在于,所述双向裁剪台(1)整体呈U型结构,且在双向裁剪台(1)的上方固定设置有晶圆裁切台(101),所述双向裁剪台(1)的内部通过Y向丝杆(102)设置有移动基座(103),移动基座(103)上设置有龙门架(2),所述龙门架(2)两部上下两侧设置有用于晶圆料裁切的裁切机构。

7.根据权利要求6所述的一种改善划片崩边的方法,其特征在于,两个裁切机构结构完全一致。

8.根据权利要求7所述的一种改善划片崩边的方法,其特征在于,所述裁切机构包括固定设置在龙门架(2)内部的横向导向块(201),横向导向块(201)内部在竖直方向上开设有贯穿的条形槽口,横向导向块(201)的条形槽口上滑动连接有驱动腔体(203),所述驱动腔体(203)的内部竖直设置有Z向丝杆(204),Z向丝杆(204)上螺纹连接有纵向导向块(205),纵向导向块(205)经两侧的连接板贯穿驱动腔体(203)正面的滑槽连接裁切安装板(206),裁切安装板(206)上设置有裁切电机(207)。

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