[发明专利]一种激光辅助制作精密线路的方法有效
申请号: | 202111465495.1 | 申请日: | 2021-12-03 |
公开(公告)号: | CN114158195B | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 黄明安;温淦尹 | 申请(专利权)人: | 四会富仕电子科技股份有限公司 |
主分类号: | H05K3/00 | 分类号: | H05K3/00;H05K3/06 |
代理公司: | 深圳市精英创新知识产权代理有限公司 44740 | 代理人: | 邓星文 |
地址: | 526243 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 激光 辅助 制作 精密 线路 方法 | ||
1.一种激光辅助制作精密线路的方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、提供一需制作线路的生产板,所述生产板上所需制作的线路包括线路间距>50μm的粗线路以及线路间距≤50μm的精密线路;
S2、在生产板上贴膜;
S3、对生产板进行曝光处理,完成所述粗线路和精密线路的曝光,且精密线路之间的间隙部分也全部被曝光;
S4、对生产板进行显影和蚀刻处理,以蚀刻去除粗线路间隙处的部分铜层,蚀刻时的蚀刻量控制在大于线路铜厚的一半且不露底层基材;
S5、采用激光烧蚀精密线路之间的间隙部分,以去除精密线路间隙处的膜和部分铜层,铜层的烧蚀深度控制在大于线路铜厚的一半且不露底层基材;
S6、再次对生产板进行蚀刻处理和退膜,在生产板上形成粗线路和精密线路。
2.根据权利要求1所述的激光辅助制作精密线路的方法,其特征在于,步骤S1和S2之间还包括以下步骤:
S11、对生产板进行棕化处理。
3.根据权利要求1所述的激光辅助制作精密线路的方法,其特征在于,步骤S1中,所述生产板的外层铜厚为53μm;步骤S2中,膜采用20μm厚的干膜。
4.根据权利要求3所述的激光辅助制作精密线路的方法,其特征在于,步骤S4中,蚀刻量控制在35μm。
5.根据权利要求1-4任一项所述的激光辅助制作精密线路的方法,其特征在于,步骤S5中,采用UV激光进行烧蚀,且铜层的烧蚀深度控制在≥35μm。
6.根据权利要求1所述的激光辅助制作精密线路的方法,其特征在于,步骤S5中,精密线路间隙处的铜层余厚≤粗线路间隙处的铜层余厚。
7.一种激光辅助制作精密线路的方法,其特征在于,包括以下步骤:
S01、在生产板上涂敷抗蚀膜,而后通过曝光工序完成线路曝光;
S02、采用激光烧蚀线路之间的间隙部分,以去除线路间隙处的膜和部分铜层,铜层的烧蚀深度控制在大于线路铜厚的一半且不露底层基材;
S03、而后对生产板进行蚀刻处理和退膜,以蚀刻去除线路间隙处的铜层,在生产板上形成精密线路。
8.根据权利要求7所述的激光辅助制作精密线路的方法,其特征在于,步骤S01中,在贴膜前先对生产板进行棕化处理。
9.根据权利要求7所述的激光辅助制作精密线路的方法,其特征在于,步骤S02和S03之间还包括以下步骤:
S021、对生产板进行显影处理,形成线路图形。
10.根据权利要求7所述的激光辅助制作精密线路的方法,其特征在于,步骤S02中,激光采用UV激光。
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