[发明专利]一种改善硅片酸腐蚀平坦度的方法

权利要求书

1.一种改善硅片酸腐蚀平坦度的方法，其特征在于，其包括：

S1、将硅片放入盛槽的滚筒中，盛槽内装有腐蚀液，所述腐蚀液由氰氟酸、硝酸、醋酸、两性离子型表面活性剂所组成；

按质量分数计，所述腐蚀液中含5-6％的氢氟酸、50-55％的硝酸、8-10％的醋酸、两性离子型表面活性剂0.3％-1.5％；

所述滚筒浸没在腐蚀液中，其周面为镂空结构，所述滚筒能够在盛槽内转动；所述硅片以站立式放置在滚筒内，利用所述滚筒的转动使硅片在腐蚀液中转动；所述滚筒同时还周期性地上下往复移动，使硅片相对盛槽内的腐蚀液进行向上的抛动动作，使硅片的边缘周期性的暴露在腐蚀液上方；

S2、使用QDR法对硅片进行清洗；

S3、使用超纯水溢流冲洗硅片；

S4、使用甩干方法对硅片表面脱水、干燥。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，S1中，按质量分数计，所述腐蚀液中含5.5％的氢氟酸、52％的硝酸、9％的醋酸、两性离子型表面活性剂1％。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，S1中，所述盛槽内的腐蚀液温度为23-27℃。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，S1的处理时间为1-4min。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，S1中，所述滚筒的转速为25-35rpm；所述滚筒上下往复移动的幅度为1-105mm、速度为3-5.5mm/min。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，S1中，所述盛槽外部设有一个副槽，该盛槽和副槽之间以循环管路及泵组件连接，使腐蚀液被抽吸到副槽，再从副槽抽吸送回盛槽，从而使腐蚀液在盛槽内循环流动；所述循环管路及泵组件还包括过滤装置，用于滤除和收集腐蚀产生的反应物。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，S1中，在副槽或循环管路上设有浓度监测计，用于监测腐蚀液中各成分的浓度，当某成分浓度低于预设浓度时，自动向腐蚀液中补给相应成分。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，S1中，按质量分数计，所述腐蚀液中还添加了0.01-1.5％的有机硅阴离子表面活性剂。

9.根据权利要求1-8任一项所述的方法，其特征在于，S1中，所述两性离子型表面活性剂为甜菜碱型。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述两性离子型表面活性剂为C8-C20烷基甜菜碱、C8-C20烷基酰胺基C3-C8烷基甜菜碱、烷基磺基甜菜碱、烷基酰胺丙基羟基磺基甜菜碱、或C8-C20烷基酰胺基C3-C8烷基磺基甜菜碱。