[发明专利]一种Mist法制备氧化镓薄膜的制备设计

权利要求书

1.一种Mist法制备氧化镓薄膜的制备设计，其特征在于：它包括以下步骤：

步骤1：将乙酰丙酮镓在常温下溶于去离子水中，加入Ga金属离子配置成前驱体溶液，并将将配置好的前驱体溶液与盐酸溶液均匀混合；

步骤2：将蓝宝石衬底依次在在丙酮、乙醇、去离子水中超声清洗10min后然后用氮气吹干，再将蓝宝石衬底放入Mist CVD装置中进行薄膜生长；

步骤3：将生长好的薄膜进行相应温度的原位退火，便可制得氧化镓薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种Mist法制备氧化镓薄膜的制备设计，其特征在于：所述步骤1中前驱体溶液与盐酸溶液的体积比为100:1。

3.根据权利要求1所述的一种Mist法制备氧化镓薄膜的制备设计，其特征在于：所述步骤2中蓝宝石衬底在Mist CVD装置加工时工艺参数为：常压，载流气体流量为0.5L/min，稀释气体力量为1L/min，衬底温度为500℃-750℃，生长时间120和60min。

4.根据权利要求3所述的一种Mist法制备氧化镓薄膜的制备设计，其特征在于：所述的载流气体为氩气，所述的稀释气体为氧气。

5.根据权利要求1所述的一种Mist法制备氧化镓薄膜的制备设计，其特征在于：所述步骤2中蓝宝石衬底在Mist CVD装置加工的具体流程如下：首先将蓝宝石衬底放置在反应腔(8)内的加热托盘(6)上，反应腔(8)先抽真空，然后通过进氩管(3)向反应腔(8)中通入氩气，使氩气充满整个反应腔(8)，接着将前驱体溶液加入超声雾化罐(4)中，设置反应腔(8)内的加热温度，当温度达到设定温度时，通过进氧管(2)通入氧气，与此同时开启超声雾化罐(4)内的雾化器，用流量计(1)控制氩气作为载流气体，氧气作为稀释气体，将超声雾化罐(4)中的雾滴送进反应腔(8)内并与衬底发生接触，进行沉积。

6.根据权利要求1所述的一种Mist法制备氧化镓薄膜的制备设计，其特征在于：所述步骤3中在退火过程中的退火气体为氧气。