[发明专利]一种脉冲电沉积制备铜砷合金的方法有效
申请号: | 202111333249.0 | 申请日: | 2021-11-11 |
公开(公告)号: | CN113930807B | 公开(公告)日: | 2023-03-31 |
发明(设计)人: | 肖睿洋;曾伟志;陈冰鑫;胡辉;郭文香;晏阳;胡翔宇 | 申请(专利权)人: | 中南大学 |
主分类号: | C25C1/24 | 分类号: | C25C1/24;C25C7/06 |
代理公司: | 长沙市融智专利事务所(普通合伙) 43114 | 代理人: | 赵进 |
地址: | 410083 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 脉冲 沉积 制备 合金 方法 | ||
1.一种脉冲电沉积制备铜砷合金的方法,其特征在于:以铜电解液为原料,通过脉冲电沉积工艺制备铜砷合金;所述铜电解液中铜离子浓度为6~8g/L,砷离子浓度为2~3g/L,氢离子浓度为60~80g/L;将铜电解液通过溶剂萃取法或化学沉淀法处理后,去除铜电解液中的锑、铋;所述脉冲电沉积工艺中,参比电极为硫酸亚汞电极,工作电极为导电碳布,辅助电极为铂电极;所述脉冲电沉积工艺中,电流密度为0.015A/cm2;所述脉冲电沉积工艺中,沉积时间不低于60min;所述脉冲电沉积工艺中,脉冲频率为20hz~5000hz;所述脉冲电沉积工艺中,占空比为50%~80%。
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