[发明专利]衬底处理装置

说明书

本发明的衬底处理装置对衬底供给流体而进行处理，所述装置包含以下要素：第1处理壳体；处理部，设置在所述第1处理壳体的内部，用于利用流体对载置于载置部的衬底进行处理；第1供给部，从所述第1处理壳体的供进行维护的正侧面观察时，配置在所述处理部的一侧方，对所述处理部供给第1流体；及第2供给部，从所述正侧面观察时，配置在所述处理部的另一侧方，对所述处理部供给第2流体。

技术领域

本发明涉及一种衬底处理装置，通过对半导体晶圆、液晶显示器或有机EL(Electroluminescence，电致发光)显示装置用衬底、光掩模用玻璃衬底、光盘用衬底、磁盘用衬底、陶瓷衬底、太阳电池用衬底等衬底(以下，简称为衬底)供给处理液或处理气体等流体来进行处理。

背景技术

以往，这种装置中，有些具备壳体、处理部及供给部。例如，参照日本专利特开2017-163103号公报(图1)。壳体具备处理部及供给部。处理部利用各种处理液对衬底进行处理。供给部向处理部供给各种处理液。供给部在从作业人员对装置进行维护时所进出的正侧面观察时，只与处理部的左右方向的一侧邻接而配置。该一侧例如为右侧。供给部例如对处理部供给两种处理液(例如，酸、碱)。

壳体在装置的与正侧面相反一侧的背侧面，设置有用于在与处理部之间交接衬底的搬入搬出口。处理部于俯视时在中央具备载置衬底的载置部。供给部具备供给处理液的喷嘴。喷嘴的前端部在位于载置部上方的供给位置与离开载置部的待机位置之间回转。回转是以喷嘴的基端部为轴来进行。这种构成中，配备两根喷嘴的情况下，要使各喷嘴互不干涉地分散配置在处理部中。

各喷嘴的基端部分散地配置在处理部内的载置部的周围。具体来说，一喷嘴的基端部在从处理部的正侧面观察时配置在右侧。一喷嘴在俯视时沿着处理部的从正侧面向背侧面的一边配置。一喷嘴从供给部起沿着正侧面配置配管，并通过该配管被供给处理液。另一喷嘴的基端部在从处理部的正侧面观察时配置在左侧。另一喷嘴在俯视时沿着处理部的从正侧面向背侧面的一边配置。也就是说，另一喷嘴与一喷嘴相比配置在远离供给部的位置。换句话说，另一喷嘴隔着处理部的载置部配置在供给部的相反侧。

然而，具有这种构成的以往的例子存在如下问题。

即，在以往的装置中，另一喷嘴为了避开沿着正侧面配置的一喷嘴的配管，需要从供给部起沿着背侧面连接配管。因此，另一喷嘴配置在距供进行维护的正侧面最远的位置，所以难以进出该配管。结果为，存在维护性差的问题。另外，如果沿着背侧面连接配管，则配管长度会变长。像这样配管长度变长时，还会产生处理液的滞留量增加，或者未经调温的处理液增加这样的问题。

发明内容

本发明是鉴于这种情况而完成，目的在于提供一种通过对配置进行设计，而能提高维护性且能缩短配管长度的衬底处理装置。

本发明为了达成这种目的而采用如下构成。

本发明是一种衬底处理装置，对衬底供给流体而进行处理，所述装置包含以下要素：第1处理壳体；处理部，设置在所述第1处理壳体的内部，用于利用流体对载置于载置部的衬底进行处理；第1供给部，从所述第1处理壳体的供进行维护的正侧面观察时，配置在所述处理部的一侧方，对所述处理部供给第1流体；及第2供给部，从所述正侧面观察时配置在所述处理部的另一侧方，对所述处理部供给第2流体。

根据本发明，衬底处理装置于第1处理壳体中具备处理部，且具备对处理部供给第1流体的第1供给部、及对处理部供给第2流体的第2供给部。第1供给部在从第1处理壳体的正侧面观察时，配置在处理部的一侧方，第2供给部在从第1处理壳体的正侧面观察时配置在处理部的另一侧方。因此，并没有在位于正侧面的相反侧且难以进出的背侧面配置第1供给部或第2供给部。结果为，第1供给部及第2供给部均可容易地从正侧面进出，所以能提高维护性。另外，第1供给部及第2供给部可缩短配管长度。