[发明专利]衬底处理装置

权利要求书

1.一种衬底处理装置，对衬底供给流体而进行处理，所述装置包含以下要素：

第1处理壳体；

处理部，设置在所述第1处理壳体的内部，用于利用流体对载置于载置部的衬底进行处理；

第1供给部，从所述第1处理壳体的供进行维护的正侧面观察时，配置在所述处理部的一侧方，对所述处理部供给第1流体；及

第2供给部，从所述正侧面观察时配置在所述处理部的另一侧方，对所述处理部供给第2流体。

2.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中

所述第1供给部具备：

第1喷嘴，对载置于所述载置部的衬底供给所述第1流体；及

第1流体供给部，对所述第1喷嘴供给所述第1流体；

所述第2供给部具备：

第2喷嘴，对载置于所述载置部的衬底供给所述第2流体；及

第2流体供给部，对所述第2喷嘴供给所述第2流体。

3.根据权利要求2所述的衬底处理装置，其中

所述第1喷嘴具备：基端部，从所述第1流体供给部被供给所述第1流体；喷出部，与所述基端部连通连接；及臂，将所述基端部与所述喷出部连结；且所述基端部配置在比所述载置部更靠所述第1流体供给部侧，所述喷出部以所述基端部为中心在位于所述载置部上方的供给位置与离开所述载置部的待机位置之间摆动，

所述第2喷嘴具备：基端部，从所述第2流体供给部被供给所述第2流体；喷出部，与所述基端部连通连接；及臂，将所述基端部与所述喷出部连结；且所述基端部配置在比所述载置部更靠所述第2流体供给部侧，所述喷出部以所述基端部为中心在位于所述载置部上方的供给位置与离开所述载置部的待机位置之间摆动。

4.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中

所述第1流体与所述第2流体为不同的流体。

5.根据权利要求2所述的衬底处理装置，其中

所述第1流体与所述第2流体为不同的流体。

6.根据权利要求3所述的衬底处理装置，其中

所述第1流体与所述第2流体为不同的流体。

7.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中

所述第1流体及所述第2流体为液体。

8.根据权利要求2所述的衬底处理装置，其中

所述第1流体及所述第2流体为液体。

9.根据权利要求3所述的衬底处理装置，其中

所述第1流体及所述第2流体为液体。

10.根据权利要求4所述的衬底处理装置，其中

所述第1流体及所述第2流体为液体。

11.根据权利要求3所述的衬底处理装置，其中

所述第1流体供给部具备：

第1流体贮存部，贮存所述第1流体，且具备输出所述第1流体的输送部及供所述第1流体回流的回流部；

供给管，与所述第1流体贮存部的所述输送部连通连接；

回收管，与所述第1流体贮存部的所述回流部连通连接；

回收部，设置在所述待机位置，回收从所述第1喷嘴供给的所述第1流体；

排出管，与所述回收部连通连接，将由所述回收部回收的所述第1流体排出；

供给分支管，一端部与所述供给管连通连接，另一端部与所述基端部连通连接；

流量计，测量所述供给分支管中的所述第1流体的流量；

流量调整阀，设置在比所述流量计更靠所述供给分支管的所述基端部侧，操控所述供给分支管中的所述第1流体的流量；及

供给控制阀，用于从所述喷嘴供给及停止供给经所述流量调整阀调整的所述第1流体。

12.根据权利要求11所述的衬底处理装置，其中

所述流量调整阀配置在所述第1处理壳体的靠近所述正侧面的位置。