[发明专利]沉积钒金属的方法、结构、器件和沉积组件

权利要求书

1.一种在衬底上沉积钒金属的方法，该方法包括：

在反应室中提供衬底；

以气相向反应室提供钒前体；以及

以气相向反应室提供还原剂，以在衬底上形成钒金属。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述钒前体包括无机化合物。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述钒前体包括有机化合物。

4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述钒前体包括钒烷基酰胺基化合物或钒二烷基酰胺基化合物。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述还原剂包括氢。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述还原剂包括氮。

7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述还原剂包括肼或其衍生物，或者其中，所述还原剂包括二氮烯基化合物。

8.根据权利要求6所述的方法，其中，所述还原剂包括烷基肼或二烷基肼。

9.根据权利要求1所述的方法，其中，所述还原剂包括有机金属化合物。

10.根据权利要求1所述的方法，其中，所述还原剂包括有机分子。

11.根据权利要求1所述的方法，其中，所述还原剂包括铝。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述还原剂包括氢化铝(AlH₃)或氢化铝的中性配体加合物。

13.根据权利要求11所述的方法，其中，所述还原剂包括含Al-H键的氨基络合物或含Al-H键的酰胺络合物。

14.根据权利要求1所述的方法，其中，沉积过程交替地和顺序地在反应室中提供钒前体和还原剂，并且在反应室中提供钒前体和还原剂之间吹扫反应室。

15.根据权利要求1所述的方法，其中，沉积过程包括热沉积过程。

16.根据权利要求1所述的方法，其中，在沉积过程中反应室内的压力小于760托，或者其中，在循环沉积过程中反应室内的压力在0.2托和760托之间。

17.一种含钒金属层，其中该层包括通过以下步骤沉积的钒金属：

在反应室中提供衬底；

以气相向反应室提供钒前体；以及

以气相向反应室提供还原剂，以在衬底上形成钒金属。

18.一种包括含钒金属层的结构，该含钒金属层通过以下步骤沉积：

在反应室中提供衬底；

以气相向反应室提供钒前体；以及

以气相向反应室提供还原剂，以在衬底上形成钒金属。

19.一种包括含钒金属层的器件，该含钒金属层通过以下步骤生产：

在反应室中提供衬底；

以气相向反应室提供钒前体；以及

以气相向反应室提供还原剂，以在衬底上形成钒金属。

20.一种用于在衬底上沉积钒金属的沉积组件，包括：

一个或多个反应室，其构造和布置成保持衬底；

前体注射器系统，其构造和布置成以气相将钒前体和/或还原剂提供到反应室中；

其中，所述沉积组件包括构造和布置成容纳和蒸发钒前体的前体容器；并且

该组件构造和布置成通过前体注射器系统向反应室提供钒前体和/或还原剂，以在衬底上沉积钒金属。

21.根据权利要求20所述的沉积组件，其中，所述沉积组件还包括容器，该容器包括构造和布置成蒸发钒前体的蒸发器。