[发明专利]气体溶解液供给装置及由气体溶解液供给装置执行的方法在审

专利信息
申请号: 202111158227.5 申请日: 2021-09-30
公开(公告)号: CN114272776A 公开(公告)日: 2022-04-05
发明(设计)人: 小泽卓;荒木裕二;渡边敏史;中川洋一;木村梨沙;徐涛 申请(专利权)人: 株式会社荏原制作所
主分类号: B01F23/20 分类号: B01F23/20;B01F25/30
代理公司: 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 代理人: 张丽颖
地址: 日本国东京都*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 气体 溶解 供给 装置 执行 方法
【说明书】:

本发明提供一种能够实现气体溶解液的高浓度化,能够抑制气体溶解液的送出压力的变动的气体溶解液供给装置及由气体溶解液供给装置执行的方法。气体溶解液供给装置(1)具备:积存气体溶解液的第一气液分离器(8)、设置于第一气液分离器的后段并积存向使用点供给的气体溶解液的第二气液分离器(16)、设置于第一气液分离器和第二气液分离器之间的中间线路(17)、设置于中间线路并使从第一气液分离器向第二气液分离器供给的气体溶解液的压力上升的升压泵(18)、供给成为气体溶解液的原料的气体的气体供给线路(2)、设置于中间线路并使从气体供给线路供给的气体溶解于从第一气液分离器供给的气体溶解液的气体溶解部(20)。

技术领域

本发明涉及一种供给气体溶解液的气体溶解液供给装置,尤其涉及一种气体溶解液的高浓度化的技术。

背景技术

以往,半导体器件、液晶等电子部件的清洗中使用了臭氧水。臭氧水通过使臭氧气体溶解于超纯水而制造,并被供给至使用点(半导体器件工厂、电子部件工厂等)。

在以往的制造臭氧水的装置中,例如使臭氧气体溶解于超纯水而制造的臭氧水积存于气液分离器,并通过设置于气液分离器的后段(下游侧)的泵从气液分离器向使用点送出臭氧水(例如,参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2019-155221号公报

但是,在以往的装置中,只设置了一个气液分离器,并在该气液分离器的后段设置了泵(向使用点送出臭氧水的泵),因此,难以提高气液分离器的压力,臭氧水的高浓度化较困难。另外,在该泵为空气驱动式的泵的情况下,由于泵的脉动的影响而难以抑制臭氧水的送出压力的变动。

发明内容

本发明是鉴于上述的技术问题而做成的,其目的在于提供一种能够实现气体溶解液的高浓度化,能够抑制气体溶解液的送出压力的变动的气体溶解液供给装置。

用于解决技术问题的技术手段

本发明的气体溶解液供给装置具备:第一气液分离器,该第一气液分离器积存气体溶解液;第二气液分离器,该第二气液分离器设置于所述第一气液分离器的后段,并积存向使用点供给的气体溶解液;中间线路,该中间线路设置于所述第一气液分离器与所述第二气液分离器之间;升压泵,该升压泵设置于所述中间线路,并使从所述第一气液分离器向所述第二气液分离器供给的气体溶解液的压力上升;气体供给线路,该气体供给线路供给成为所述气体溶解液的原料的气体;以及气体溶解部,该气体溶解部设置于所述中间线路,并使从所述气体供给线路供给的气体溶解于从所述第一气液分离器供给的气体溶解液。

根据该结构,由于升压泵设置于第二气液分离器的前段,因此能够提高第二气液分离器的压力,能够实现气体溶解液的高浓度化。另外,由于第二气液分离器设置于升压泵的后段,因此能够得到阻尼器效果,能够抑制从第二气液分离器向使用点供给的气体溶解液的送出压力的变动。

另外,在本发明的气体溶解液供给装置中,也可以是,在所述第一气液分离器设置有循环供给线路,该循环供给线路使在使用点未使用的气体溶解液循环并供给该气体溶解液。

根据该结构,能够对在使用点未使用的气体溶解液进行再利用,从而能够削减成为气体溶解液的原料的气体的使用量。在该情况下,由于被供给在使用点未使用的气体溶解液的第一气液分离器设置于升压泵的前段,因此不需要用于提高未使用的气体溶解液的压力的泵。

另外,在本发明的气体溶解液供给装置中,也可以是,在所述第一气液分离器设置有液体供给线路,该液体供给线路供给成为所述气体溶解液的原料的液体,在所述液体供给线路设置有第二气体溶解部,该第二气体溶解部使从所述第二气液分离器排出的未溶解的剩余气体溶解于成为所述气体溶解液的原料的液体。

根据该结构,能够对从第二气液分离器排出的未溶解的剩余气体进行再利用,从而能够削减成为气体溶解液的原料的气体的使用量。

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