[发明专利]一种彩色滤光片及其制备方法在审
申请号: | 202111049716.7 | 申请日: | 2021-09-08 |
公开(公告)号: | CN113764493A | 公开(公告)日: | 2021-12-07 |
发明(设计)人: | 朱正峰 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;G02B5/20 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 杨瑞 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 彩色 滤光 及其 制备 方法 | ||
1.一种彩色滤光片,其特征在于,包括:
黑矩阵层,包括遮光区域和所述遮光区域一侧的透光区域;以及,
彩色滤光层,所述彩色滤光层对应的设置在所述透光区域内;
其中,所述遮光区域内的所述黑矩阵层上具有微结构,且所述微结构设置在所述彩色滤光层的出光一侧对应的所述黑矩阵层上。
2.根据权利要求1所述的彩色滤光片,其特征在于,所述微结构包括凹孔,所述凹孔至少设置在所述黑矩阵层的表面。
3.根据权利要求2所述的彩色滤光片,其特征在于,所述凹孔不规则的分布在所述黑矩阵层的表面上。
4.根据权利要求2所述的彩色滤光片,其特征在于,所述凹孔的孔径在100nm~1um之间。
5.根据权利要求2所述的彩色滤光片,其特征在于,所述凹孔还包括暗孔,所述暗孔设置在所述黑矩阵层内部,并与所述凹孔相连通。
6.根据权利要求5所述的彩色滤光片,其特征在于,所述暗孔与所述黑矩阵层的非出光一侧对应的表面不连通。
7.根据权利要求5中任一项所述的彩色滤光片,其特征在于,所述黑矩阵层还包括纳米颗粒,所述纳米颗粒设置在所述黑矩阵层的所述暗孔内。
8.一种彩色滤光片的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
提供衬底;
在所述衬底上制备黑矩阵层,并在所述黑矩阵层内分散纳米颗粒;
将所述黑矩阵层出光一侧的表层上对应的所述纳米颗粒去除,并形成微结构;
在所述黑矩阵层的透光区域内设置彩色滤光层。
9.根据权利要求8所述的彩色滤光片的制备方法,其特征在于,在设置所述彩色滤光层时,所述彩色滤光层与所述黑矩阵层同层设置。
10.根据权利要求8所述的彩色滤光片的制备方法,其特征在于,在所述黑矩阵层内设置所述纳米颗粒时,所述纳米颗粒包括聚苯乙烯纳米颗粒。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
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