[发明专利]一种反光膜及其制备方法

权利要求书

1.一种反光膜，其特征在于，所述反光膜包括基材以及在所述基材两面的至少一面上的覆盖层，所述覆盖层包括粘合剂树脂以及分散于所述粘合剂树脂中的反光粒子，所述反光粒子为具有近似二维结构，所述近似二维结构为平均直径D为1-10μm，平均厚度H0为20-50nm，平均径厚比D/H0为25-500，所述覆盖层厚度H1满足于公式：H0＜H1＜D。

2.如权利要求1所述的反光膜，其特征在于，所述近似二维结构平均直径为1-2.5μm，平均厚度为25-40nm，平均径厚比D/H0为25-100。

3.如权利要求2所述的近似二维结构，其特征在于，所述近似二维结构形貌为近似圆片状。

4.如权利要求1所述的反光膜，其特征在于，所述反光粒子为氧化钛、硫酸钡、碳酸钙中的至少一种。

5.如权利要求1所述的反光膜，其特征在于，所述粘合剂树脂的材料为丙烯酸树脂、聚氨酯树脂及聚酯树脂中的至少一种。

6.一种如权利要求1-5任一项所述的反光膜的制备方法，其特征在于，其包括以下步骤：

a.提供片材；

b.提供含有粘合剂树脂和近似二维结构反光粒子的混合涂布液；

c.在所述片材的至少一面涂布厚度为H2的含有粘合剂树脂和近似二维结构反光粒子的混合涂布液；

d.将经过c步骤后的材料拉伸后，经干燥固化后得到反光膜。

7.如权利要求6所述的反光膜，其特征在于，所述混合涂布液在片材的至少一面上的涂布厚度H2满足：nH0＜H2＜nD，所述n为经过所述步骤d的材料拉伸倍数。

8.如权利要求6所述的反光膜，其特征在于，所述混合涂布液中所述反光粒子所占的质量比t为5％-30％。

9.如权利要求6所述的反光材料的制备方法，其特征在于，在所述片材的至少一面涂布含有粘合剂树脂和近似二维结构反光粒子的混合涂布液的方法为：辊涂、喷涂中的任一种。

10.如权利要求6所述的反光材料的制备方法，其特征在于，所述拉伸方法为单轴拉伸、双轴拉伸的至少一种。