[发明专利]基于方酸的介电转变材料及其制备方法在审
| 申请号： | 202110894498.0 | 申请日： | 2021-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN113444044A | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 刘力荣;韩向斌 | 申请（专利权）人： | 东南大学 |
| 主分类号： | C07D231/12 | 分类号： | C07D231/12;C07C49/707;C07C45/61;C07C45/81 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 张华蒙 |
| 地址： | 211102 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基于 转变 材料 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.基于方酸的介电转变材料，其特征在于：该材料为方酸和吡唑形成的氢键型有机盐，化学式为C7H6N2O4，分子结构为：
2.权利要求1所述的基于方酸的介电转变材料的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：
(1)将方酸和吡唑分别溶于去离子水中；
(2)将吡唑水溶液缓慢滴加到方酸水溶液中，持续搅拌至溶液澄清，过滤静置，室温挥发，得到无色透明块状晶体，即得。
3.根据权利要求2所述的基于方酸的介电转变材料的制备方法，其特征在于：所述的步骤(1)中，方酸和吡唑的摩尔比为1：1。
4.根据权利要求2所述的基于方酸的介电转变材料的制备方法，其特征在于：所述的步骤(2)中，无色透明块状晶体，结晶于三斜晶系，空间群，方酸和吡唑均为平面型分子，方酸和吡唑之间通过N-H···O氢键连接形成带状的结构，在空间中形成层状堆叠结构。
5.根据权利要求2所述的基于方酸的介电转变材料的制备方法，其特征在于：所述的步骤(2)中，无色透明块状晶体中，该结构的晶胞参数：α＝108.056(10)°，β＝94.793(9)°，γ＝90.339°。
6.根据权利要求2所述的基于方酸的介电转变材料的制备方法，其特征在于：所述的步骤(2)中，室温挥发时间为5～7天。
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