[发明专利]基板处理方法及基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理方法，包括：

将浸渍于冲洗液中的基板从所述冲洗液中提起后，使表面张力小于所述冲洗液的第一有机溶剂附着于所述基板，并且将所述基板浸于贮存于腔室内的槽中的冲洗液中的步骤；

从所述冲洗液中提起所述基板的步骤；及

向所述提起的基板所存在的所述腔室内供给表面张力小于所述冲洗液的第二有机溶剂的蒸汽的步骤。

2.根据权利要求1所述的基板处理方法，还包括：

在将所述基板浸于所述冲洗液中的所述步骤之前向所述腔室内供给所述第一有机溶剂的蒸汽的步骤，且

在将所述基板浸于所述冲洗液中的所述步骤中，使所述基板下降，而将附着有所述第一有机溶剂的所述基板浸于所述冲洗液中。

3.根据权利要求2所述的基板处理方法，其中

在供给所述第一有机溶剂的蒸汽的所述步骤中，利用所述第一有机溶剂的蒸汽在所述冲洗液的液面形成所述第一有机溶剂的膜。

4.根据权利要求1所述的基板处理方法，还包括：

在将所述基板浸于所述冲洗液中的所述步骤之前，对贮存于所述槽中的所述冲洗液直接供给所述第一有机溶剂，由此在所述冲洗液的液面形成所述第一有机溶剂的膜的步骤，且

在将所述基板浸于所述冲洗液中的所述步骤中，使所述基板下降，而将所述基板浸于形成了所述第一有机溶剂的膜的所述冲洗液中。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的基板处理方法，其中

交替执行多次将所述基板浸于所述冲洗液中的所述步骤与提起所述基板的所述步骤。

6.根据权利要求5所述的基板处理方法，其中

在提起所述基板且为最后执行的所述步骤中，从所述冲洗液中提起所述基板时的所述基板的上升速度最小。

7.根据权利要求1、2、3、4、或6所述的基板处理方法，其中

将所述基板浸于所述冲洗液中时的所述基板的下降速度大于从所述冲洗液中提起所述基板时的所述基板的上升速度。

8.一种基板处理方法，包括：

将浸渍于冲洗液中的基板从所述冲洗液中提起后，使所述基板穿过表面张力小于所述冲洗液的第一有机溶剂的膜并且浸于在液面具有所述第一有机溶剂的膜的冲洗液中的步骤；

使所述基板穿过所述第一有机溶剂的膜并且从所述冲洗液中提起所述基板的步骤；及

向所述提起的基板所存在的腔室内供给表面张力小于所述冲洗液的第二有机溶剂的蒸汽的步骤。

9.一种基板处理装置，包括：

腔室；

槽，配置于所述腔室内；

基板移动部，执行以下动作：将浸渍于冲洗液中的基板从所述冲洗液中提起后，使表面张力小于所述冲洗液的第一有机溶剂附着于所述基板，并且将所述基板浸于贮存于所述槽中的冲洗液中的动作；及从所述冲洗液中提起所述基板的动作；及

流体供给部，向利用所述基板移动部从所述冲洗液中提起的所述基板所存在的所述腔室内供给表面张力小于所述冲洗液的第二有机溶剂的蒸汽。

10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其中

在所述基板移动部执行将所述基板浸于所述冲洗液中的所述动作之前，所述流体供给部向所述腔室内供给所述第一有机溶剂的蒸汽，

所述基板移动部使所述基板下降，而将附着有所述第一有机溶剂的所述基板浸于所述冲洗液中。

11.根据权利要求10所述的基板处理装置，其中

在所述基板移动部执行将所述基板浸于所述冲洗液中的所述动作之前，所述流体供给部利用所述第一有机溶剂的蒸汽在所述冲洗液的液面形成所述第一有机溶剂的膜。