[发明专利]一种五氧化三钛晶体的制备方法在审
| 申请号: | 202110866370.3 | 申请日: | 2021-07-29 |
| 公开(公告)号: | CN113550007A | 公开(公告)日: | 2021-10-26 |
| 发明(设计)人: | 邵小兰;朱亮 | 申请(专利权)人: | 泰州市爱特斯光学材料有限公司 |
| 主分类号: | C30B29/16 | 分类号: | C30B29/16;C30B11/00 |
| 代理公司: | 北京哌智科创知识产权代理事务所(普通合伙) 11745 | 代理人: | 陈培生 |
| 地址: | 225500 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 氧化 晶体 制备 方法 | ||
本发明公开了一种五氧化三钛晶体的制备方法,属于五氧化三钛的制备领域,本发明采用分阶段升温的方法,第一阶段:常温升至1050℃;第二阶段:1050℃升至1150℃,当温度达到1150℃时采用0.3L/min‑0.8L/min的流量充入惰性保护气体;第三阶段:继续保持0.8L/min的流量充入惰性保护气体,1150℃保温1‑2小时;本发明通过加大惰性保护气体的通入流量,从而加大坩埚内原料的反应速率,进而有利于五氧化三钛的合成,实现降低了加热温度、减少能源消耗的技术效果。
技术领域
本发明涉及五氧化三钛的制备,具体涉及一种五氧化三钛晶体的制备方法。
背景技术
五氧化三钛,是一种蓝黑色粉末,具有金属光泽,其含氧量在62.3%~64.3%(原子)。五氧化三钛晶体,属于斜方晶系结构,是通过高温升华结晶而产生的,晶格常数α=0.3747nm。密度4.29g/cm3,熔点2180℃,为真空镀膜用材料,它的优点是放气量小、纯度高、无崩点、不跳药、折射率稳定,生产技术在国内同行业中达到领先水平。
现有技术中,颗粒状的五氧化三钛在制备过程均容易引入杂质,形成大量气孔,存在含氧量相对差异较大的物质,从而影响制得的镀膜层的纯度和质量。而起现有的制备五氧化三钛镀膜材料通常采用高温加热的方法,高温加热法对绝缘技术要求严格,工艺复杂,同时电能消耗大,生产成本高。
发明内容
本发明的目的在于提供一种降低加热温度,减少电能消耗的五氧化三钛晶体的制备方法。
本发明的技术方案是:一种五氧化三钛晶体的制备方法,包括以下步骤:
1)、将原料钛粉和氧化硅包覆处理的金红石型二氧化钛粉按质量比为=1:9-12,混合均匀、造粒,在100-300℃下烘干,成为烧结料;
2)、将烧结料放入坩埚中,坩埚转移至高温下降炉内,抽真空至炉内真空度为10-3-10-4pa以下;
3)、对整个系统分阶段升温烧结,各阶段的参数设定如下:
第一阶段:常温升至1050℃,升温速率为5-7℃/min,真空度保持在10-3-10-4pa以下;
第二阶段:1050℃升至1150℃,升温速率为2-4℃/min,当温度达到1150℃时采用0.3L/min-0.8L/min的流量充入惰性保护气体;
第三阶段:继续保持0.8L/min的流量充入惰性保护气体,1150℃保温1-2小时,原料熔化充分,晶体生长的固液界面温度梯度在30-48℃/cm的范围内,坩埚下降速率在1.5-3.5mm/h之间,
4)、待晶体生长结束后,转移至生长炉内保温10-24小时,然后经过匀速降至室温。
进一步的技术方案,步骤3)中对整个系统的加热方式是电磁感应加热。
进一步的技术方案,步骤4)中以50-55℃/h的速度降至室温,对所生长的晶体进行退火处理。
进一步的技术方案,步骤3)中第二阶段充入的惰性保护气体为氩气、氦气、氦气中的任一种。
本发明的有益效果:
本发明原料采用氧化硅包覆处理的金红石型二氧化钛粉,由于纳米TiO2粒子很小,具有很高的比表面积和表面能,粉体团聚现象较为严重。采用氧化硅包覆处理的金红石型二氧化钛粉,减少了粉体的团聚现象,制备过程中通过加大惰性保护气体的通入流量,从而加大坩埚内原料的反应速率,进而有利于五氧化三钛的合成,实现降低了加热温度、减少能源消耗的技术效果。
具体实施方式
下面通过非限制性实施例,进一步阐述本发明,理解本发明。
实施例1:
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