[发明专利]静电保护器件有效

专利信息
申请号: 202110808125.7 申请日: 2021-07-16
公开(公告)号: CN113540074B 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 许杞安 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 宋兴;刘芳
地址: 230011 安徽省合肥*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 静电 保护 器件
【权利要求书】:

1.一种静电保护器件,其特征在于,包括第一子器件,所述第一子器件包括:第一P型重掺杂区、第一N型重掺杂区、第二N型重掺杂区、第二P型重掺杂区和第三N型重掺杂区;

其中,所述第一P型重掺杂区和所述第一N型重掺杂区均位于P阱内,所述第二P型重掺杂区和所述第三N型重掺杂区均位于第一N阱内,所述第二N型重掺杂区的一部分位于所述P阱内,所述第二N型重掺杂区的另一部分位于所述第一N阱内,所述P阱和所述第一N阱相邻接,且所述P阱和所述第一N阱均位于P型衬底内;

所述P型衬底上设有栅极结构,所述栅极结构位于所述第一N型重掺杂区和所述第二N型重掺杂区之间,且所述栅极结构、所述第一N型重掺杂区和所述第二N型重掺杂区形成晶体管。

2.根据权利要求1所述的静电保护器件,其特征在于,所述第一N型重掺杂区连接第一电压,所述第二P型重掺杂区连接第二电压,所述栅极结构通过第一电阻连接所述第一电压。

3.根据权利要求1所述的静电保护器件,其特征在于,所述P阱、所述第一N阱和所述第一N型重掺杂区形成寄生NPN型晶体管;

所述P阱、所述第一N阱和所述第二P型重掺杂区形成寄生PNP型晶体管,所述寄生PNP型晶体管和所述寄生NPN型晶体管形成第一泄电通路。

4.根据权利要求3所述的静电保护器件,其特征在于,所述P阱具有第一寄生电阻,所述第一寄生电阻的一端连接所述寄生NPN型晶体管的基级,所述寄生NPN型晶体管的基级还连接所述寄生PNP型晶体管的集电极。

5.根据权利要求3所述的静电保护器件,其特征在于,所述第一N阱具有第二寄生电阻,所述第二寄生电阻的一端连接所述寄生PNP型晶体管的基级,所述寄生PNP型晶体管的基级还连接所述寄生NPN型晶体管的集电极。

6.根据权利要求1所述的静电保护器件,其特征在于,所述第二N型重掺杂区位于所述第一P型重掺杂区和所述第二N型重掺杂区之间,所述第二P型重掺杂区位于所述第二N型重掺杂区和所述第三N型重掺杂区之间。

7.根据权利要求1所述的静电保护器件,其特征在于,所述P阱和所述第一N阱均位于深N阱内,且所述深N阱位于所述P型衬底上。

8.根据权利要求7所述的静电保护器件,其特征在于,所述P阱远离所述第一N阱的一侧还设置有第二N阱,所述第二N阱与所述P阱邻接,且所述第二N阱的一部分位于所述深N阱内,所述第二N阱的另一部分位于所述P型衬底上。

9.根据权利要求1所述的静电保护器件,其特征在于,所述第一子器件还包括浅槽隔离区,所述浅槽隔离区设置在所述第一P型重掺杂区和所述第一N型重掺杂区之间、所述第二N型重掺杂区和所述第二P型重掺杂区之间,以及所述第二P型重掺杂区和所述第三N型重掺杂区之间。

10.根据权利要求1所述的静电保护器件,其特征在于,所述第二P型重掺杂区和所述第二N型重掺杂区形成第一二极管,所述第一二极管的阳极连接所述第二P型重掺杂区,所述第一二极管的阴极连接所述第二N型重掺杂区,所述第一二极管和所述晶体管形成第二泄电通路。

11.根据权利要求1-10任一项所述的静电保护器件,其特征在于,所述第一子器件还包括:

设置在所述第一P型重掺杂区和所述第三N型重掺杂区的第二二极管,所述第二二极管的阳极连接所述第三N型重掺杂区,所述第二二极管的阴极连接所述第一P型重掺杂区。

12.根据权利要求11所述的静电保护器件,其特征在于,所述第二二极管的数量为多个,多个所述第二二极管串联在所述第一P型重掺杂区和所述第三N型重掺杂区之间。

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