[发明专利]MEMS微镜设备在审
| 申请号: | 202110778290.2 | 申请日: | 2021-07-09 |
| 公开(公告)号: | CN113912002A | 公开(公告)日: | 2022-01-11 |
| 发明(设计)人: | R·卡尔米纳蒂;N·博尼;M·默利;E·杜奇 | 申请(专利权)人: | 意法半导体股份有限公司 |
| 主分类号: | B81B7/02 | 分类号: | B81B7/02;B81B7/00 |
| 代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 董莘 |
| 地址: | 意大利阿格*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | mems 设备 | ||
1.一种MEMS微镜设备,包括:
封装件,包括容纳体和对光辐射透明的盖,所述封装件形成腔;和
可倾斜平台,被容纳在所述腔中,并且具有反射表面;以及
元结构,被形成在所述封装件和所述反射表面中的至少一个上,其中所述元结构包括多个衍射光学元件。
2.根据权利要求1所述的MEMS微镜设备,其中所述多个衍射光学元件中的第一衍射光学元件形成第一衍射基本单元,所述第一衍射基本单元具有在平面内延伸的区域,并且其中所述第一衍射基本单元的所述第一衍射光学元件以在属于所述平面的可变性方向上线性可变的第一可变密度被布置。
3.根据权利要求2所述的MEMS微镜设备,其中所述可倾斜平台被配置为能够绕旋转轴旋转,并且所述可变性方向垂直于所述旋转轴。
4.根据权利要求2所述的MEMS微镜设备,其中所述第一衍射基本单元的所述第一衍射光学元件在所述可变性方向上具有线性可变的尺寸。
5.根据权利要求4所述的MEMS微镜设备,其中所述可变性方向上的所述尺寸小于在所述MEMS微镜设备的应用领域中所述光辐射的波长。
6.根据权利要求2所述的MEMS微镜设备,其中所述第一衍射基本单元的所述第一衍射光学元件在所述可变性方向上以线性可变的元件间距离被布置。
7.根据权利要求6所述的MEMS微镜设备,其中所述元件间距离小于所述MEMS微镜设备的应用领域中的所述光辐射的波长。
8.根据权利要求2所述的MEMS微镜设备,其中所述多个衍射光学元件中的第二衍射光学元件形成第二衍射基本单元,所述第二衍射光学元件以在所述可变性方向上线性可变的所述第一密度被布置,并且其中所述第一衍射基本单元和所述第二衍射基本单元在所述可变性方向上以等于2πλ的倍数的单元间距离被彼此并排布置,其中λ是所述MEMS微镜设备的应用领域中的所述光辐射的波长。
9.根据权利要求1所述的MEMS微镜设备,其中所述多个衍射光学元件中的衍射光学元件由柱形成。
10.根据权利要求9所述的MEMS微镜设备,其中所述多个衍射光学元件中的衍射光学元件由具有第一折射率的材料制成,并且被浸入具有第二折射率的介质中,其中所述第一折射率大于所述第二折射率。
11.根据权利要求9所述的MEMS微镜设备,其中所述多个衍射光学元件中的所述衍射光学元件从支承表面突出。
12.根据权利要求9所述的MEMS微镜设备,其中所述多个衍射光学元件中的所述衍射光学元件延伸穿过介电层。
13.根据权利要求12所述的MEMS微镜设备,其中所述介电层包括二氧化硅。
14.根据权利要求1所述的MEMS微镜设备,其中所述多个衍射光学元件中的衍射光学元件由在所述介电层中制成的开口形成。
15.根据权利要求14所述的MEMS微镜设备,其中所述介电层包括氧化硅层。
16.根据权利要求1所述的MEMS微镜设备,其中所述盖由光学透明材料制成,并且具有内表面和外表面,所述内表面面向所述可倾斜平台,所述外表面与所述内表面相对,其中所述元结构被形成在所述盖的所述外表面上。
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