[发明专利]显示设备及其制造方法在审
| 申请号: | 202110778078.6 | 申请日: | 2021-07-09 |
| 公开(公告)号: | CN113921571A | 公开(公告)日: | 2022-01-11 |
| 发明(设计)人: | 金载益;郭惠珍;朴正善;朴熙敏;沈龙燮;李娟和;李濬九;洪宗范 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;G09G3/3208 |
| 代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 任旭;韩芳 |
| 地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 显示 设备 及其 制造 方法 | ||
1.一种显示设备,所述显示设备包括:
基底,包括:
显示区域,包括透射区域和像素区域;以及
外围区域,与所述显示区域相邻;
显示元件,与所述像素区域对应地设置,所述显示元件包括:
像素电极;
中间层,在所述像素电极上;以及
对电极,在所述中间层上;
疏水层,与所述透射区域对应地设置;以及
多个细颗粒,设置在所述疏水层上,所述多个细颗粒和所述对电极包括相同的材料。
2.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述疏水层包括在末端处包括至少一个-CF3基团的氟类分子。
3.根据权利要求1所述的显示设备,其中,
所述中间层包括:
发射层,在所述像素电极上;以及
电子传输层和电子注入层,所述电子传输层和所述电子注入层设置在所述发射层与所述对电极之间,并且
所述疏水层直接设置在所述电子传输层上。
4.根据权利要求3所述的显示设备,其中,所述电子注入层包括金属材料。
5.根据权利要求1所述的显示设备,其中,
所述中间层包括:
发射层,在所述像素电极上;以及
电子传输层和电子注入层,所述电子传输层和所述电子注入层设置在所述发射层与所述对电极之间,并且
所述疏水层直接设置在所述电子注入层上。
6.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述多个细颗粒中的每个细颗粒具有在1nm至10nm的范围内的直径。
7.根据权利要求1所述的显示设备,其中,在相同区域中,所述多个细颗粒的体积比为所述对电极的体积比的30%或更小。
8.根据权利要求1所述的显示设备,所述显示设备还包括与所述显示区域对应地设置在所述对电极上的盖层。
9.根据权利要求8所述的显示设备,其中,所述盖层包括与所述透射区域对应的开口。
10.根据权利要求9所述的显示设备,所述显示设备还包括设置在所述盖层上的薄膜封装层,所述薄膜封装层包括至少一个无机封装层和至少一个有机封装层,
其中,所述至少一个无机封装层直接接触所述多个细颗粒并且与所述透射区域对应。
11.根据权利要求8所述的显示设备,其中,所述盖层具有在1.7至1.99的范围内的折射率。
12.根据权利要求8所述的显示设备,所述显示设备还包括光学功能层,所述光学功能层与所述透射区域对应地设置在所述疏水层上方,
其中,所述光学功能层具有在1.3至1.6的范围内的折射率。
13.根据权利要求12所述的显示设备,其中,所述光学功能层直接接触所述多个细颗粒。
14.根据权利要求12所述的显示设备,其中,所述盖层与所述透射区域对应地设置在所述光学功能层上。
15.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述对电极包括与所述透射区域对应的开口。
16.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述多个细颗粒具有亲水性。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





