[发明专利]可挠式光感测面板及其制造方法

说明书

本发明公开了一种可挠式光感测面板，包括可挠性基板、波长转换层、光电转换层、中介层以及黏着层。波长转换层设置于可挠性基板上。光电转换层重叠设置于波长转换层，且位于可挠性基板与波长转换层之间。中介层设置于光电转换层与可挠性基板之间。黏着层设置于中介层与可挠性基板之间。可挠性基板与中介层的其中至少一者的玻璃转移温度大于150℃。一种可挠式光感测面板的制造方法亦被提出。

技术领域

本发明是有关于一种光感测面板及其制造方法，且特别是有关于一种可挠式光感测面板及其制造方法。

背景技术

光感测器的应用非常广泛。较常见的有数位相机或摄影机所使用的影像感测器，例如互补式金属氧化物半导体(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor，CMOS)影像感测器或电荷耦合元件(Charge-coupled Device，CCD)。除此之外，用于安检、工业检测或医疗诊察的非可见光(例如X射线)感测器，因其高附加价值而成为相关制造商的重点开发项目。其中一种适于安装在弯曲表面上的X射线感测器，更能满足不同应用情境下的使用需求。

由于这类X射线感测器需具有可挠性，因此其基板一般是使用高分子基板，例如聚乙烯对苯二甲酸酯(Polyethylene Terephthalate，PET)。然而，在这类X射线感测器的制造过程中，上述的高分子基板并无法承受波长转换层的热蒸镀制程的高温，因此容易在基板与功能性膜层之间形成皱褶，导致整体的生产良率无法提升。

发明内容

本发明提供一种可挠式光感测面板，其具有较佳的制程弹性。

本发明提供一种可挠式光感测面板的制造方法，其生产良率较佳。

本发明的可挠式光感测面板，包括可挠性基板、波长转换层、光电转换层、中介层以及黏着层。波长转换层设置于可挠性基板上。光电转换层重叠设置于波长转换层，且位于可挠性基板与波长转换层之间。中介层设置于光电转换层与可挠性基板之间。黏着层设置于中介层与可挠性基板之间。可挠性基板与中介层的其中至少一者的玻璃转移温度大于150℃。

本发明的可挠式光感测面板的制造方法，包括于暂时基板上依序形成中介层与光电转换层、进行热蒸镀制程，以形成波长转换层于光电转换层上、移除暂时基板，并暴露出中介层以及将可挠性基板贴附于中介层。中介层位于暂时基板与光电转换层之间。可挠性基板、中介层与暂时基板的其中至少一者的玻璃转移温度大于150℃。

基于上述，在本发明的一实施例的可挠式光感测面板的制造方法中，通过可挠式基板与暂时基板的至少一者的玻璃转移温度大于150℃，能避免可挠性基板与各膜层之间发生皱褶的现象，有助于提升可挠式感测面板的生产良率。另一方面，藉由中介层的设置，可增加各膜层于不同基板之间的转移成功率。换句话说，本发明的一实施例的可挠式光感测面板可具有较佳的制程弹性。

附图说明

图1是本发明的一实施例的可挠式光感测面板的剖视示意图。

图2A至图2G是图1的可挠式光感测面板的制造方法的流程剖视图。

图3A至图3D是图1的可挠式光感测面板的另一种制造方法的流程剖视图。

图4是本发明的另一实施例的可挠式光感测面板的剖视示意图。

图5是本发明的又一实施例的可挠式光感测面板的剖视示意图。

图6是本发明的再一实施例的可挠式光感测面板的剖视示意图。

图7A至图7C是图6的可挠式光感测面板的制造方法的流程剖视图。

其中，附图标记：

10、11、12A、12B:可挠式光感测面板

10M:可挠式光感测母板

50:滚轮装置